操纵器、操纵器阵列、带电粒子工具、多射束带电粒子工具和带电粒子射束的操纵方法

By using manipulators or manipulator arrays in charged particle tools, aberration and defocusing problems in multi-beam inspection devices are solved, improving image quality and manufacturing efficiency, and enabling efficient semiconductor chip inspection.

CN115702472BActive Publication Date: 2026-07-17ASML NETHERLANDS BV
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Patent Information

Authority / Receiving Office
CN · China
Patent Type
Patents(China)
Current Assignee / Owner
ASML NETHERLANDS BV
Filing Date
2021-05-28
Publication Date
2026-07-17

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Abstract

一种用于在投射系统中操纵带电粒子射束的操纵器，该操纵器包括衬底，该衬底具有相对的主表面和贯穿通道，在这些主表面的每个主表面中限定有孔径，该贯穿通道具有在孔径之间延伸的互连表面，其中互连表面包括一个或多个电极。操纵器还包括分压器，该分压器包括串联连接的两个或更多个电阻元件，该分压器包括每对相邻电阻元件之间的中间节点，其中至少一个电阻元件形成在衬底内以便在这些相对的主表面之间延伸；其中中间节点电连接到一个或多个电极中的至少一个电极。
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