用于在真空腔室中涂覆基板的蒸发源、气相沉积设备及方法

By using an evaporation source with vapor conduits and baffles, the problems of deposition rate control and substrate damage in roll-to-roll deposition systems are solved, resulting in more uniform coating deposition and reduced damage risk.

CN116157548BActive Publication Date: 2026-07-17APPLIED MATERIALS INC
View PDF 4 Cites 0 Cited by

Patent Information

Authority / Receiving Office
CN · China
Patent Type
Patents(China)
Current Assignee / Owner
APPLIED MATERIALS INC
Filing Date
2021-06-08
Publication Date
2026-07-17

Smart Images

  • Figure CN116157548B_ABST
    Figure CN116157548B_ABST
Patent Text Reader

Abstract

本案描述了一种用于在基板(10)上沉积蒸发的材料的蒸发源(100)。蒸发源(100)包括：用于蒸发材料的蒸发坩埚(30)；具有多个喷嘴(21)的蒸气分配器(20)，用于将蒸发的材料引导朝向基板；蒸气导管(40)在导管长度方向(A)上从蒸发坩埚延伸到蒸气分配器，并提供蒸发坩埚与蒸气分配器之间的流体连接，其中多个喷嘴中的至少一个喷嘴具有延伸于所述导管长度方向(A)上，或基本上平行于所述导管长度方向(A)的喷嘴轴线；以及在蒸气导管中的挡板布置(50)。进一步描述了包括这种蒸发源(100)的气相沉积设备(200)，以及在真空腔室中涂覆基板的方法。
Need to check novelty before this filing date? Find Prior Art