材料表面异常区域的分析方法
By acquiring the target spot in XPS analysis and comparing the data, the problem of external signals masking signals in key areas was solved, enabling accurate analysis of abnormal areas on the material surface and guidance for process improvement.
CN117451764BActive Publication Date: 2026-07-17JIHUA LAB
Patent Information
- Authority / Receiving Office
- CN · China
- Patent Type
- Patents(China)
- Current Assignee / Owner
- JIHUA LAB
- Filing Date
- 2023-08-16
- Publication Date
- 2026-07-17
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Abstract
本发明涉及材料检测及分析技术领域，特别涉及一种材料表面异常区域的分析方法，本发明通过利用一束目标光斑对待测区域以及标准区域进行照射，并收集待测区域的当前数据以及标准区域的标准数据，接下来再将当前数据与标准数据进行比对分析，得到异常区域的异常结果的方式，使得本发明实现了对待测材料表面的异常区域的异常结果进行分析的功能，进而也就解决了相关技术中在使用XPS对样品进行分析时，由于大量的外部信号会减弱或者掩盖重点关注区域的信号，导致样品失效原因查找难度大幅度增加以及阻碍工艺改进方向的准确判定的技术问题。
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