一种镀膜基底的清洗方法
CN117505375BActive Publication Date: 2026-07-17SOUTHWEAT UNIV OF SCI & TECH
Patent Information
- Authority / Receiving Office
- CN · China
- Patent Type
- Patents(China)
- Current Assignee / Owner
- SOUTHWEAT UNIV OF SCI & TECH
- Filing Date
- 2023-11-10
- Publication Date
- 2026-07-17
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Abstract
本发明公开了一种镀膜基底的清洗方法,包括:使用洗涤剂对镀膜基底进行粗洗;对镀膜基底进行丙酮超声清洗;对镀膜基底进行去离子水冲洗,去除丙酮残留;对镀膜基底进行酸洗;再次对镀膜基底进行去离子水冲洗;对镀膜基底进行等离子体清洗。本发明中,其中洗涤剂清洗能够去除大颗粒和明显的油污杂质,超声清洗能够去除微小顽固的污染物,酸洗能够去除镀膜基底表面的氧化物杂质和有机污染物,通过化学方法在基底表面引入羟基,提高镀膜基底的亲水性;通过等离子体清洗,去除镀膜基底表面的有机物杂质,将酸洗不彻底附着在基底表面的污渍去除,满足镀膜对基底洁净度的要求,提高了膜层与基底之间的粘附力和镀膜质量。
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