一种基于超临界醇处理的g-C3N4改性方法和应用
CN118179566BActive Publication Date: 2026-07-17XI AN JIAOTONG UNIV +1
Patent Information
- Authority / Receiving Office
- CN · China
- Patent Type
- Patents(China)
- Current Assignee / Owner
- XI AN JIAOTONG UNIV
- Filing Date
- 2024-03-29
- Publication Date
- 2026-07-17
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Abstract
本发明公开了一种基于超临界醇处理的g‑C3N4及方法和应用,将原始g‑C3N4分散在醇中,得到g‑C3N4醇分散液;在惰性气氛下的密闭容器中将g‑C3N4的醇分散液加热至超临界温度以上,洗涤,干燥,得到基于超临界醇处理的改性g‑C3N4。本发明中基于超临界流体的优异传递性和高反应活性,整个处理过程可在12min内完成,且产率可达80%以上。本发明中基于超临界醇处理的g‑C3N4的结构调控可增强光催化剂的光吸收能力、调节光生载流子动力学及增加光催化反应的活性位点,从而提升基于超临界醇处理的g‑C3N4的光催化产氢活性。
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