一种金属基前驱体吸附除杂装置
CN120695595BActive Publication Date: 2026-07-17JIANGSU RONGDAO SEMICON TECH CO LTD
Patent Information
- Authority / Receiving Office
- CN · China
- Patent Type
- Patents(China)
- Current Assignee / Owner
- JIANGSU RONGDAO SEMICON TECH CO LTD
- Filing Date
- 2025-06-24
- Publication Date
- 2026-07-17
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Abstract
本发明公开了一种金属基前驱体吸附除杂装置，属于半导体设备技术领域。本发明的金属基前驱体吸附除杂装置包括外壳，外壳构成金属基前驱体吸附除杂装置的外部轮廓，外壳具有一个吸附腔室，吸附腔室中填充有吸附填料；其中，外壳上设有进气口和出气口；列管，列管设置于吸附腔室内且列管中填充导热油；所述列管上沿其径向环设有延伸部，在所述延伸部上设有分布孔；其中，所述延伸部固定连接在所述列管的外表面；定义穿过所述列管直径的平面为N面，所述延伸部在N面上的投影与列管直径之间的投影之间的角度小于90°，以使所述延伸部在所述气体上升路径上的接触面形成加热面，另一侧面为导向面，所述分布孔连通所述辐射面和导向面。
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