一种超高压清洗设备及使用方法

CN122400201APending Publication Date: 2026-07-17WUS PRINTED CIRCUIT (KUNSHAN) CO LTD
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Patent Information

Authority / Receiving Office
CN · China
Patent Type
Applications(China)
Current Assignee / Owner
WUS PRINTED CIRCUIT (KUNSHAN) CO LTD
Filing Date
2026-03-06
Publication Date
2026-07-17

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Abstract

本发明公开了一种超高压水洗设备及其使用方法，属于PCB制备技术领域。所述设备包括固定底座、夹持平台、X / Y / Z三轴运动模块、水洗组件、CCD定位系统、控制系统以及掩模板；所述使用方法包括：装载PCB板及掩模板；系统定位并获取孔坐标；通过三轴运动模块将水洗组件对准孔位；启动水洗组件进行水洗，按照预设的预冲洗、高压重点冲洗和低压收尾冲洗三阶段参数进行清洗，同时控制喷嘴沿Z轴周期性上下移动，产生压力波动以增强清洗效果；逐孔完成清洗。本发明通过掩模板保护铜箔，结合超高压定点喷射与动态清洗动作，有效解决了高纵横比PCB通孔的钻污清洗难题，在确保清洗彻底的同时避免了表面损伤。
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