ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法
JP2026119693APending Publication Date: 2026-07-17GIGAPHOTON INC
Patent Information
- Authority / Receiving Office
- JP · JP
- Patent Type
- Applications
- Current Assignee / Owner
- GIGAPHOTON INC
- Filing Date
- 2025-01-07
- Publication Date
- 2026-07-17
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Figure 2026119693000001_ABST
Abstract
メンテナンスを容易にし得るガスレーザ装置を提供する。【解決手段】ガスレーザ装置は、パルスレーザ光を出射するチャンバ装置と、パルスレーザ光のパルス幅を伸長する複数のループ光路を有するパルス伸長器400と、パルス伸長器を収容し、パルス伸長器を出し入れ可能な開口が形成される本体部を含む筐体と、を備え、ループ光路410L~440Lは、パルスレーザ光が入射するビームスプリッタと、ビームスプリッタに入射したパルスレーザ光の一部を順次反射してパルスレーザ光の他の一部に重畳するようにビームスプリッタに戻す複数の周回用ミラーとを含み、パルス伸長器は、ビームスプリッタ及び周回用ミラーの少なくとも一方を含む2つ以上の光学素子を有し開口から個別に出し入れ可能な複数のユニットを含み、複数のユニットは、第1ユニットと、第1ユニットより開口側と反対側に位置する第2ユニットと、を含む。
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