ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法
JP2026119694APending Publication Date: 2026-07-17GIGAPHOTON INC
Patent Information
- Authority / Receiving Office
- JP · JP
- Patent Type
- Applications
- Current Assignee / Owner
- GIGAPHOTON INC
- Filing Date
- 2025-01-07
- Publication Date
- 2026-07-17
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Figure 2026119694000001_ABST
Abstract
メンテナンスを容易にし得るガスレーザ装置を提供する。【解決手段】ガスレーザ装置は、パルスレーザ光を出射するチャンバ装置と、パルスレーザ光のパルス幅を伸長する複数のループ光路410L~440Lを含むパルス伸長器400と、を備え、ループ光路は、パルスレーザ光が入射するビームスプリッタと、ビームスプリッタに入射したパルスレーザ光の一部を順次反射して前記パルスレーザ光の他の一部に重畳するようにビームスプリッタに戻す複数の周回用ミラーとを含み、パルス伸長器は、2つ以上のビームスプリッタを1つ以上の周回用ミラーと分離して着脱可能なユニット10Uを含む。
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