ウェーハのラインスキャン測定方法、ウェーハの面スキャン測定方法及び検査装置
JP7891784B1Active Publication Date: 2026-07-17TAMON SHIYUZOU
Patent Information
- Authority / Receiving Office
- JP · JP
- Patent Type
- Patents
- Current Assignee / Owner
- TAMON SHIYUZOU
- Filing Date
- 2026-05-01
- Publication Date
- 2026-07-17
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Abstract
アライナーを使用せずに、ウェーハの位置座標と、ステージ座標系の位置座標を相互に変換可能なウェーハの位置座標の変換方法を提供する。【解決手段】ウェーハを載置するステージと、ウェーハの検査を行うための検査手段と、ステージに載置されたウェーハの外周部を検出可能なリニアセンサとを備えた検査部において、オリエンテーションフラット又はノッチを備えたウェーハをステージに載置し、ステージを回転させながらリニアセンサによりウェーハの外周部を測定して、ステージ座標系におけるウェーハの外周部の位置情報を取得し、ステージ座標系におけるウェーハの外周部の位置情報を用いて、ウェーハ座標系におけるウェーハの面内の位置座標を、ステージ座標系におけるステージの面内の位置座標に変換する、又は、ステージ座標系におけるステージの面内の位置座標を、ウェーハ座標系におけるウェーハの面内の位置座標に変換する方法。
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