Array substrate and display apparatus

Abstract

An array substrate is provided. The array substrate includes a planarization layer; a pixel definition layer on the planarization layer; a light emitting layer on a side of the pixel definition layer away from the planarization layer; an insulation layer on a side of the light emitting layer away from the planarization layer; an organic material layer on a side of the insulation layer away from the planarization layer; and a color filter on a side of the organic material layer away from the planarization layer. The organic material layer is in direct contact with the color filter.

Description

ARRAY SUBSTRATE AND DISPLAY APPARATUSTECHNICAL FIELD

[0001] The present invention relates to display technology, more particularly, to an array substrate and a display apparatus.BACKGROUND

[0002] Display technology has evolved significantly over the years, driven by increasing demand for high-quality visual performance in a variety of applications, including consumer electronics, automotive displays, and wearable devices. Among various display technologies, organic light-emitting diode (OLED) displays have gained widespread attention due to their advantages such as high contrast ratio, wide viewing angles, fast response time, and the ability to produce flexible and lightweight designs.SUMMARY

[0003] In one aspect, the present disclosure provides an array substrate, comprising a planarization layer; a pixel definition layer on the planarization layer; a light emitting layer on a side of the pixel definition layer away from the planarization layer; an insulation layer on a side of the light emitting layer away from the planarization layer; an organic material layer on a side of the insulation layer away from the planarization layer; and a color filter on a side of the organic material layer away from the planarization layer; wherein the organic material layer is in direct contact with the color filter.

[0004] Optionally, the array substrate comprises a light non-transmissive region, and a plurality of light transmissive regions spaced apart from each other by the light non-transmissive region; wherein the color filter comprises a plurality of color filter blocks; and a respective color filter block of the plurality of color filter blocks is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions; wherein the array substrate further comprises a black matrix at least partially in the light non-transmissive region.

[0005] Optionally, the array substrate further comprises a first coating layer on a side of the insulating layer away from the planarization layer; wherein the first coating layer is at least partially in the light non-transmissive region.

[0006] Optionally, the organic material layer comprises a plurality of organic material blocks; a respective organic material block of the plurality of organic material blocks is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, and is at least partially outside the light non-transmissive region; and in the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising the first coating layer, the black matrix on the first coating layer, and a portion of the color filter on a side of the black matrix away from the first coating layer, sequentially arranged.

[0007] Optionally, the organic material layer extends through the plurality of light transmissive regions and the light non-transmissive region; an orthographic projection of the organic material layer on a base substrate covers an orthographic projection of the color filter on the base substrate, and covers an orthographic projection of the black matrix on the base substrate; and in the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising a portion of the organic material layer, the first coating layer on the portion of the organic material layer, the black matrix on a side of the first coating layer away from the portion of the organic material layer, and a portion of the color filter on a side of the black matrix away from the first coating layer, sequentially arranged.

[0008] Optionally, the black matrix is on a side of a portion of the color filter in the light non-transmissive region away from the first coating layer; and in the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising the first coating layer, a portion of the color filter on the first coating layer, and the black matrix on a side of the portion of the color filter away from the first coating layer, sequentially arranged.

[0009] Optionally, the organic material layer extends through the plurality of light transmissive regions and the light non-transmissive region; an orthographic projection of the organic material layer on a base substrate at least partially overlaps with an orthographic projection of the color filter on the base substrate; and at least partially overlaps with an orthographic projection of the black matrix on the base substrate; the organic material layer comprises a first portion and a plurality of second portions; a respective second portion of the plurality of second portions is surrounded by the first portion; a respective second portion of the plurality of second portions is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, and is at least partially outside the light non-transmissive region; and the first portion is at least partially in the light non-transmissive region, and is at least partially outside the respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions.

[0010] Optionally, a portion of the color filter in the light non-transmissive region is on a side of the black matrix away from the first coating layer; and in the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising the first portion, the black matrix on the first portion, and a portion of the color filter on a side of the black matrix away from the first portion, sequentially arranged.

[0011] Optionally, the black matrix is on a side of a portion of the color filter in the light non-transmissive region away from the first coating layer; and in the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising the first portion, a portion of the color filter on the first portion, and the black matrix on a side of the portion of the color filter away from the first portion, sequentially arranged.

[0012] Optionally, the black matrix is on a side of the insulating layer away from the planarization layer; and the organic material layer is on a side of the black matrix away from the planarization layer.

[0013] Optionally, the organic material layer comprises a first portion and a plurality of second portions; a respective second portion of the plurality of second portions is surrounded by the first portion; a respective second portion of the plurality of second portions is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, and is at least partially outside the light non-transmissive region; the first portion is at least partially in the light non-transmissive region, and is at least partially outside the respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions; and in the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising the black matrix, the first portion on the black matrix, and a portion of the color filter on a side of the first portion away from the black matrix, sequentially arranged.

[0014] Optionally, the organic material layer comprises a plurality of organic material blocks; a respective organic material block of the plurality of organic material blocks is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, and is at least partially outside the light non-transmissive region; and in the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising the black matrix, and a portion of the color filter on the black matrix, sequentially arranged.

[0015] Optionally, the organic material layer is on a side of the first coating layer away from the planarization layer.

[0016] Optionally, in the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising the first coating layer, the organic material layer on the first coating layer, the black matrix on a side of the organic material layer away from the first coating layer, and a portion of the color filter on a side of the black matrix away from the organic material layer, sequentially arranged.

[0017] Optionally, in the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising the first coating layer, the organic material layer on the first coating layer, a portion of the color filter on a side of the organic material layer away from the first coating layer, and the black matrix on a side of the portion of the color filter away from the organic material layer, sequentially arranged.

[0018] Optionally, in the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising the first coating layer, the black matrix on the first coating layer, the organic material layer on a side of the black matrix away from the first coating layer, and a portion of the color filter on a side of the organic material layer away from the black matrix, sequentially arranged.

[0019] Optionally, the array substrate comprises a light non-transmissive region, and a plurality of light transmissive regions spaced apart from each other by the light non-transmissive region; wherein the color filter comprises a plurality of color filter blocks; and a respective color filter block of the plurality of color filter blocks is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions; wherein the array substrate further comprises, in the light non-transmissive region, a stacked structure comprising at least three sublayers of color filter, wherein the three sublayers are of three different color.

[0020] Optionally, the array substrate comprises a light non-transmissive region, and a plurality of light transmissive regions spaced apart from each other by the light non-transmissive region; wherein the color filter comprises a plurality of color filter blocks; and a respective color filter block of the plurality of color filter blocks is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions; wherein the insulating layer is at least partially absent in the respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions.

[0021] Optionally, with respect to a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, a first edge of an orthographic projection of a respective organic material block of the plurality of organic material blocks on a base substrate is spaced apart from a second edge of an orthographic projection of the pixel definition layer on the base substrate by a first shortest distance; the second edge surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective organic material block on the base substrate; the second edge is spaced apart from a third edge of an orthographic projection of the first coating layer on the base substrate by a second shortest distance, wherein the third edge surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective organic material block on the base substrate; the first edge is spaced apart from the third edge by a third shortest distance; the first shortest distance d1 ≥ 0; the second shortest distance d2 ≥ 0; and the third shortest distance d3 ≥ 0.

[0022] Optionally, the organic material layer comprises a first portion and a plurality of second portions; a respective second portion of the plurality of second portions is surrounded by the first portion; a respective second portion of the plurality of second portions is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, and is at least partially outside the light non-transmissive region; the first portion is at least partially in the light non-transmissive region, and is at least partially outside the respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions; with respect to a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, a fourth edge of an orthographic projection of a respective second portion of the plurality of second portions on a base substrate is spaced apart from a second edge of an orthographic projection of the pixel definition layer on the base substrate by a fourth shortest distance; the second edge surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective second portion on the base substrate; and the fourth shortest distance d4 ≥ 0.

[0023] Optionally, with respect to a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, a fifth edge of an orthographic projection of the black matrix on a base substrate is spaced apart from a second edge of an orthographic projection of the pixel definition layer on the base substrate by a fifth shortest distance; the second edge surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective second portion of the plurality of second portions on the base substrate; and the fifth shortest distance d5 ≥ 0.

[0024] Optionally, with respect to a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, a fifth edge of an orthographic projection of the black matrix on a base substrate is spaced apart from a second edge of an orthographic projection of the pixel definition layer on the base substrate by a fifth shortest distance; the second edge surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective organic material block on the base substrate; the fifth edge is spaced apart from a first edge of an orthographic projection of a respective organic material block of the plurality of organic material blocks on the base substrate by a sixth shortest distance; the fifth shortest distance d5 ≥ 0; and the sixth shortest distance d6 ≥ 0.

[0025] Optionally, with respect to a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, a third edge of an orthographic projection of the first coating layer on a base substrate is spaced apart from a second edge of an orthographic projection of the pixel definition layer on the base substrate by a seventh shortest distance; the second edge surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective organic material block on the base substrate; a first edge of an orthographic projection of a respective organic material block of the plurality of organic material blocks on the base substrate is spaced apart from a sixth edge of an orthographic projection of a top edge of the first coating layer on the base substrate by an eighth shortest distance; the sixth edge surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective organic material block on the base substrate; the seventh shortest distance d7 ≥ 0; and the eighth shortest distance d8 ≥ 0.

[0026] Optionally, a difference between a refractive index of the organic material layer and a refractive index of the color filter is within 10%of the refractive index of the color filter.

[0027] Optionally, a refractive index of the organic material layer is less than a refractive index of the color filter.

[0028] In another aspect, the present disclosure provides a display apparatus, comprising the array substrate described herein or fabricated by a method described herein, and one or more integrated circuits connected to the array substrate. BRIEF DESCRIPTION OF THE FIGURES

[0029] The following drawings are merely examples for illustrative purposes according to various disclosed embodiments and are not intended to limit the scope of the present invention.

[0030] FIG. 1 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate.

[0031] FIG. 2 shows black spot defects observed in the array substrate depicted in FIG. 1.

[0032] FIG. 3 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure.

[0033] FIG. 4 is a plan view of a pixel definition layer, a first coating layer, and a respective organic material block of a plurality of organic material blocks in some embodiments according to the present disclosure.

[0034] FIG. 5 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure.

[0035] FIG. 6 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure.

[0036] FIG. 7 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure.

[0037] FIG. 8 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure.

[0038] FIG. 9 is a plan view of a pixel definition layer, a first portion, and a respective second portion of a plurality of second portions in some embodiments according to the present disclosure.

[0039] FIG. 10 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure.

[0040] FIG. 11 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure.

[0041] FIG. 12 is a plan view of a pixel definition layer, a black matrix, and a respective second portion of a plurality of second portions in some embodiments according to the present disclosure.

[0042] FIG. 13 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure.

[0043] FIG. 14 is a plan view of a pixel definition layer, a black matrix, and a respective organic material block of a plurality of organic material blocks in some embodiments according to the present disclosure.

[0044] FIG. 15 is a plan view of a pixel definition layer, a black matrix, and a respective organic material block of a plurality of organic material blocks in some embodiments according to the present disclosure.

[0045] FIG. 16 is a zoom-in view of FIG. 15.

[0046] FIG. 17 is a schematic diagram illustrating the structure of a pixel definition layer in some embodiments according to the present disclosure.

[0047] FIG. 18 is a schematic diagram illustrating the structure of a black matrix in some embodiments according to the present disclosure.

[0048] FIG. 19 is a schematic diagram illustrating the structure of an organic material layer in some embodiments according to the present disclosure.

[0049] FIG. 20 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure.

[0050] FIG. 21 is a plan view of a pixel definition layer, a first coating layer, a black matrix, and a respective organic material block of a plurality of organic material blocks in some embodiments according to the present disclosure.

[0051] FIG. 22 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure.

[0052] FIG. 23 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure.

[0053] FIG. 24 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure.

[0054] FIG. 25 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure.

[0055] FIG. 26 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure.

[0056] FIG. 27 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure.

[0057] FIG. 28 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure.

[0058] FIG. 29 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure.DETAILED DESCRIPTION

[0059] The disclosure will now be described more specifically with reference to the following embodiments. It is to be noted that the following descriptions of some embodiments are presented herein for purpose of illustration and description only. It is not intended to be exhaustive or to be limited to the precise form disclosed.

[0060] FIG. 1 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate. Referring to FIG. 1, the array substrate in some embodiments includes a planarization layer PLN, an anode layer ADL on the planarization layer PLN, a pixel definition layer PDL on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, a light emitting layer EML on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, an encapsulating layer EN on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, an insulating layer IN on a side of the encapsulating layer EN away from the planarization layer PLN, a touch electrode layer TEL on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a first coating layer OC1 on a side of the touch electrode layer TEL away from the planarization layer PLN, a color filter CF on a side of the touch electrode layer TEL away from the planarization layer PLN, a black matrix BM on a side of the first coating layer OC1 away from the planarization layer PLN, and a second coating layer OC2 on a side of the color filter CF away from the planarization layer PLN.

[0061] Optionally, the encapsulating layer EN includes an inorganic encapsulating sublayer CTD on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, and an organic encapsulating sublayer TFE on a side of the inorganic encapsulating sublayer CTD away from the planarization layer PLN.

[0062] Optionally, the color filter CF includes a plurality of color filter blocks CFB.

[0063] Optionally, the light emitting layer EML includes a plurality of light emitting blocks EMB.

[0064] Optionally, the first coating layer OC1 is made of an organic insulating material. Optionally, the second coating layer OC2 is made of an organic insulating material.

[0065] In some embodiments, the array substrate includes a plurality of light transmissive regions LTR spaced apart from each other by a light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, a respective light emitting block of the plurality of light emitting blocks is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR. In some embodiments, a respective color filter block of the plurality of color filter blocks CFB is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR.

[0066] In some embodiments, the black matrix BM is at least partially in the light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, the pixel definition layer PDL is at least partially in the light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, the first coating layer OC1 is at least partially in the light non-transmissive region LNTR.

[0067] The inventors of the present disclosure discover that the array substrate depicted in FIG. 1 has an improved light extraction efficiency at the normal viewing angle due to the total internal reflection between high-refractive-index color filter and low-refractive-index first coating layer. However, the inventors of the present disclosure discover that the array substrate is prone to black spot defects. FIG. 2 shows black spot defects observed in the array substrate depicted in FIG. 1. The inventors of the present disclosure discover that this is because, in the array substrate depicted in FIG. 1, the color filter CF is in direct contact with the insulating layer IN, wherein the color filter CF is made of an organic material, and the insulating layer IN is made of an inorganic material. The poor adhesion between the color filter CF and the insulating layer IN results in peeling of the color filter CF, and moisture penetration, which compromises the integrity of the array substrate, leading to visible defects such as black spots and eventual display failure.

[0068] Accordingly, the present disclosure provides, inter alia, an array substrate and a display apparatus that substantially obviate one or more of the problems due to limitations and disadvantages of the related art. In one aspect, the present disclosure provides an array substrate. In some embodiments, the array substrate includes a planarization layer; a pixel definition layer on the planarization layer; a light emitting layer on a side of the pixel definition layer away from the planarization layer; an insulation layer on a side of the light emitting layer away from the planarization layer; an organic material layer on a side of the insulation layer away from the planarization layer; and a color filter on a side of the organic material layer away from the planarization layer. Optionally, the organic material layer is in direct contact with the color filter.

[0069] FIG. 3 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 3, the array substrate in some embodiments includes a planarization layer PLN, an anode layer ADL on the planarization layer PLN, a pixel definition layer PDL on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, a light emitting layer EML on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, an encapsulating layer EN on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, an insulating layer IN on a side of the encapsulating layer EN away from the planarization layer PLN, a touch electrode layer TEL on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a first coating layer OC1 on a side of the touch electrode layer TEL away from the planarization layer PLN, an organic material layer OML on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a color filter CF on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN, a black matrix BM on a side of the first coating layer OC1 away from the planarization layer PLN, and a second coating layer OC2 on a side of the color filter CF away from the planarization layer PLN.

[0070] Optionally, the encapsulating layer EN includes an inorganic encapsulating sublayer CTD on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, and an organic encapsulating sublayer TFE on a side of the inorganic encapsulating sublayer CTD away from the planarization layer PLN.

[0071] Optionally, the color filter CF includes a plurality of color filter blocks CFB.

[0072] Optionally, the light emitting layer EML includes a plurality of light emitting blocks EMB.

[0073] Optionally, the first coating layer OC1 is made of an organic insulating material. Optionally, the second coating layer OC2 is made of an organic insulating material.

[0074] In some embodiments, the array substrate includes a plurality of light transmissive regions LTR spaced apart from each other by a light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, a respective light emitting block of the plurality of light emitting blocks is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR. In some embodiments, a respective color filter block of the plurality of color filter blocks CFB is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR.

[0075] In some embodiments, the black matrix BM is at least partially in the light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, the pixel definition layer PDL is at least partially in the light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, the first coating layer OC1 is at least partially in the light non-transmissive region LNTR.

[0076] In some embodiments, the organic material layer OML is in direct contact with the color filter CF, and is in direct contact with the insulating layer IN. In some embodiments, the organic material layer OML is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR.

[0077] In some embodiments, an orthographic projection of the organic material layer OML on a base substrate at least partially overlaps with an orthographic projection of the color filter CF on the base substrate.

[0078] The inventors of the present disclosure discover that the organic material layer OML functions as an intermediate layer to improve adhesion between the color filter CF and the insulating layer IN. Enhanced adhesion reduces risks of peeling or delamination during reliability testing. The placement of the organic material layer OML in close association with the color filter CF and its presence in the plurality of light transmissive regions LTR may aid in reducing unwanted reflections or improving the efficiency of light passing through the color filter CF.

[0079] In some embodiments, a difference between a refractive index of the organic material layer OML and a refractive index of the color filter CF is within 10% (e.g., 9%, 8%, 7%, 6%, 5%, 4%, 3%, 2%, 1%) of the refractive index of the color filter CF. In one example, the refractive index of the organic material layer OML is in a range of 1.65 to 1.70. In another example, the refractive index of the color filter CF is in a range of 1.65 to 1.75. In some embodiments, a refractive index of the first coating layer OC1 is less than the refractive index of the organic material layer OML, and less than the refractive index of the color filter CF. In one example, a refractive index of the first coating layer OC1 is in a range of 1.45 to 1.50. In another example, a refractive index of the second coating layer OC2 is in a range of 1.45 to 1.50.

[0080] In one particular example, the organic material layer OML includes an organic resin material.

[0081] In some embodiments, the organic material layer OML includes a plurality of organic material blocks OMB. In some embodiments, a respective organic material block of the plurality of organic material blocks OMB is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR, and is at least partially outside the light non-transmissive region LNTR.

[0082] In some embodiments, in the light non-transmissive region LNTR, the array substrate includes a stacked structure comprising the first coating layer OC1, the black matrix BM on the first coating layer OC1, a portion of the color filter CF on a side of the black matrix BM away from the first coating layer OC1, and the second coating layer OC2 on a side of the portion of the color filter CF away from the black matrix BM, sequentially arranged.

[0083] FIG. 4 is a plan view of a pixel definition layer, a first coating layer, and a respective organic material block of a plurality of organic material blocks in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 3 and FIG. 4, with respect to a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR, a first edge E1 of an orthographic projection of a respective organic material block of the plurality of organic material blocks OMB on a base substrate is spaced apart from a second edge E2 of an orthographic projection of the pixel definition layer PDL on the base substrate by a first shortest distance d1, wherein the second edge E2 surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective organic material block on the base substrate; the second edge E2 is spaced apart from a third edge E3 of an orthographic projection of the first coating layer OC1 on the base substrate by a second shortest distance d2, wherein the third edge E3 surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective organic material block on the base substrate; and the first edge E1 is spaced apart from the third edge E3 by a third shortest distance d3. Optionally, the first shortest distance d1 ≥ 0, the second shortest distance d2 ≥ 0, and the third shortest distance d3 ≥ 0.

[0084] In one example, the first shortest distance d1 is in a range of 0 to 6 μm. In another example, the second shortest distance d2 is in a range of 0 to 3 μm.

[0085] In one example, the organic material layer OML has a thickness in a range of 0.5 to 1.5 μm.

[0086] In one example, the first coating layer OC1 has a thickness in a range of 1.5 to 2.5 μm. In another example, the first coating layer OC1 has a slope angle in a range of 45 degrees to 85 degrees.

[0087] In one example, the black matrix BM has a thickness in a range of 1 to 2 μm. In another example, an edge of the black matrix BM is spaced apart from a top edge of the first coating layer OC1 by a shortest distance in a range of 0 to 4 μm.

[0088] In one example, the color filter CF has a thickness in a range of 2 to 4 μm. In another example, an orthographic projection of a respective color filter block of the color filter CF on a base substrate overlaps with an orthographic projection of the first coating layer OC1 on the base substrate by a margin in a range of 0 to 6 μm.

[0089] In one example, the second coating layer OC2 has a thickness in a range of 3 to 6 μm.

[0090] FIG. 5 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 5, the array substrate in some embodiments includes a planarization layer PLN, an anode layer ADL on the planarization layer PLN, a pixel definition layer PDL on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, a light emitting layer EML on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, an encapsulating layer EN on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, an insulating layer IN on a side of the encapsulating layer EN away from the planarization layer PLN, a touch electrode layer TEL on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a first coating layer OC1 on a side of the touch electrode layer TEL away from the planarization layer PLN, an organic material layer OML on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a color filter CF on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN, a black matrix BM on a side of the first coating layer OC1 away from the planarization layer PLN, and a second coating layer OC2 on a side of the color filter CF away from the planarization layer PLN.

[0091] The array substrate depicted in FIG. 5 differs from the array substrate depicted in FIG. 3 in that the organic material layer OML in the array substrate depicted in FIG. 5 is a unitary structure, e.g., extending through the plurality of light transmissive regions LTR and the light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, an orthographic projection of the organic material layer OML on a base substrate covers an orthographic projection of the color filter CF on the base substrate, and covers an orthographic projection of the black matrix BM on the base substrate.

[0092] In some embodiments, in the light non-transmissive region LNTR, the array substrate includes a stacked structure comprising a portion of the organic material layer, the first coating layer OC1 on the portion of the organic material layer, the black matrix BM on a side of the first coating layer OC1 away from the portion of the organic material layer, a portion of the color filter CF on a side of the black matrix BM away from the first coating layer OC1, and the second coating layer OC2 on a side of the portion of the color filter CF away from the black matrix BM, sequentially arranged.

[0093] FIG. 6 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 6, the array substrate in some embodiments includes a planarization layer PLN, an anode layer ADL on the planarization layer PLN, a pixel definition layer PDL on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, a light emitting layer EML on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, an encapsulating layer EN on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, an insulating layer IN on a side of the encapsulating layer EN away from the planarization layer PLN, a touch electrode layer TEL on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a first coating layer OC1 on a side of the touch electrode layer TEL away from the planarization layer PLN, an organic material layer OML on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a color filter CF on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN, a black matrix BM on a side of the color filter CF and the first coating layer OC1 away from the planarization layer PLN, and a second coating layer OC2 on a side of the color filter CF away from the planarization layer PLN.

[0094] The array substrate depicted in FIG. 6 differs from the array substrate depicted in FIG. 3 in that the black matrix BM in the array substrate depicted in FIG. 6 is on a side of a portion of the color filter CF in the light non-transmissive region LNTR away from the first coating layer OC1. In the array substrate depicted in FIG. 3, a portion of the color filter CF in the light non-transmissive region LNTR is on a side of the black matrix BM away from the first coating layer OC1.

[0095] In some embodiments, in the light non-transmissive region LNTR, the array substrate includes a stacked structure comprising the first coating layer OC1, a portion of the color filter CF on the first coating layer OC1, the black matrix BM on a side of the portion of the color filter CF away from the first coating layer OC1, and the second coating layer OC2 on a side of the black matrix BM away from the portion of the color filter CF, sequentially arranged.

[0096] FIG. 7 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 7, the array substrate in some embodiments includes a planarization layer PLN, an anode layer ADL on the planarization layer PLN, a pixel definition layer PDL on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, a light emitting layer EML on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, an encapsulating layer EN on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, an insulating layer IN on a side of the encapsulating layer EN away from the planarization layer PLN, a touch electrode layer TEL on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a first coating layer OC1 on a side of the touch electrode layer TEL away from the planarization layer PLN, an organic material layer OML on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a color filter CF on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN, a black matrix BM on a side of the color filter CF and the first coating layer OC1 away from the planarization layer PLN, and a second coating layer OC2 on a side of the color filter CF away from the planarization layer PLN.

[0097] The array substrate depicted in FIG. 7 differs from the array substrate depicted in FIG. 5 in that the black matrix BM in the array substrate depicted in FIG. 7 is on a side of a portion of the color filter CF in the light non-transmissive region LNTR away from the first coating layer OC1. In the array substrate depicted in FIG. 5, a portion of the color filter CF in the light non-transmissive region LNTR is on a side of the black matrix BM away from the first coating layer OC1.

[0098] In the array substrates depicted in FIG. 3 to FIG. 7, the black matrix BM is not in direct contact with the organic material layer OML. The black matrix BM is spaced apart from the organic material layer OML by at least the first coating layer OC1.

[0099] In some embodiments, in the light non-transmissive region LNTR, the array substrate includes a stacked structure comprising the first coating layer OC1, a portion of the color filter CF on the first coating layer OC1, the black matrix BM on a side of the portion of the color filter CF away from the first coating layer OC1, and the second coating layer OC2 on a side of the black matrix BM away from the portion of the color filter CF, sequentially arranged.

[0100] FIG. 8 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 8, the array substrate in some embodiments includes a planarization layer PLN, an anode layer ADL on the planarization layer PLN, a pixel definition layer PDL on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, a light emitting layer EML on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, an encapsulating layer EN on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, an insulating layer IN on a side of the encapsulating layer EN away from the planarization layer PLN, a touch electrode layer TEL on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, an organic material layer OML on a side of the touch electrode layer TEL away from the insulating layer IN, a color filter CF on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN, a black matrix BM on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN, and a second coating layer OC2 on a side of the color filter CF away from the planarization layer PLN.

[0101] Optionally, the encapsulating layer EN includes an inorganic encapsulating sublayer CTD on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, and an organic encapsulating sublayer TFE on a side of the inorganic encapsulating sublayer CTD away from the planarization layer PLN.

[0102] Optionally, the color filter CF includes a plurality of color filter blocks CFB.

[0103] Optionally, the light emitting layer EML includes a plurality of light emitting blocks EMB.

[0104] Optionally, the second coating layer OC2 is made of an organic insulating material.

[0105] In some embodiments, the array substrate includes a plurality of light transmissive regions LTR spaced apart from each other by a light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, a respective light emitting block of the plurality of light emitting blocks is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR. In some embodiments, a respective color filter block of the plurality of color filter blocks CFB is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR.

[0106] In some embodiments, the black matrix BM is at least partially in the light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, the pixel definition layer PDL is at least partially in the light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, the organic material layer OML is at least partially in the light non-transmissive region LNTR.

[0107] In some embodiments, the organic material layer OML is in direct contact with the color filter CF, and is in direct contact with the insulating layer IN. In some embodiments, the organic material layer OML is in direct contact with the black matrix BM. In some embodiments, the organic material layer OML extends through the plurality of light transmissive regions LTR and the light non-transmissive region LNTR.

[0108] In some embodiments, an orthographic projection of the organic material layer OML on a base substrate at least partially overlaps with an orthographic projection of the color filter CF on the base substrate. In some embodiments, an orthographic projection of the organic material layer OML on a base substrate at least partially overlaps with an orthographic projection of the black matrix BM on the base substrate.

[0109] The inventors of the present disclosure discover that the organic material layer OML functions as an intermediate layer to improve adhesion between the color filter CF and the insulating layer IN. Enhanced adhesion reduces risks of peeling or delamination during reliability testing. The placement of the organic material layer OML in close association with the color filter CF and its presence in the plurality of light transmissive regions LTR may aid in reducing unwanted reflections or improving the efficiency of light passing through the color filter CF.

[0110] In some embodiments, a refractive index of the organic material layer OML is less than a refractive index of the color filter CF. In one example, the refractive index of the color filter CF is in a range of 1.65 to 1.75. In another example, the refractive index of the organic material layer OML is in a range of 1.45 to 1.50. In another example, a refractive index of the second coating layer OC2 is in a range of 1.45 to 1.50.

[0111] In one particular example, the organic material layer OML includes an organic resin material.

[0112] In some embodiments, the organic material layer OML includes a first portion P1 and a plurality of second portions P2. A respective second portion of the plurality of second portions P2 is surrounded by the first portion P1. In some embodiments, the first portion P1 has a first thickness t1, and the plurality of second portions P2 has a second thickness t2. Optionally, the first thickness t1 is greater than the second thickness t2. In one example, the first thickness t1 is a range of 2.5 to 3.5 μm. In another example, the second thickness t2 is in a range of 0.5 to 1.0 μm. In another example, the first portion P1 has a slope angle in a range of 45 degrees to 85 degrees.

[0113] In some embodiments, a respective second portion of the plurality of second portions P2 is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR, and is at least partially outside the light non-transmissive region LNTR. Optionally, the first portion P1 is at least partially in the light non-transmissive region LNTR, and is at least partially outside the respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR.

[0114] In some embodiments, in the light non-transmissive region LNTR, the array substrate includes a stacked structure comprising the first portion P1, the black matrix BM on the first portion P1, a portion of the color filter CF on a side of the black matrix BM away from the first portion P1, and the second coating layer OC2 on a side of the portion of the color filter CF away from the black matrix BM, sequentially arranged.

[0115] FIG. 9 is a plan view of a pixel definition layer, a first portion, and a respective second portion of a plurality of second portions in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 8 and FIG. 9, with respect to a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR, a fourth edge E4 of an orthographic projection of a respective second portion of the plurality of second portions P2 on a base substrate is spaced apart from a second edge E2 of an orthographic projection of the pixel definition layer PDL on the base substrate by a fourth shortest distance d4, wherein the second edge E2 surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective second portion on the base substrate. Optionally, the fourth shortest distance d4 ≥ 0. In one example, the fourth shortest distance d4 is in a range of 0 to 3 μm.

[0116] In one example, the black matrix BM has a thickness in a range of 1 to 2 μm. In another example, an edge of the black matrix BM is spaced apart from a top edge of the first portion P1 by a shortest distance in a range of 0 to 4 μm.

[0117] In one example, the color filter CF has a thickness in a range of 2 to 4 μm. In another example, an orthographic projection of a respective color filter block of the color filter CF on a base substrate overlaps with an orthographic projection of the first portion P1 on the base substrate by a margin in a range of 0 to 6 μm.

[0118] In one example, the second coating layer OC2 has a thickness in a range of 3 to 6 μm.

[0119] FIG. 10 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 10, the array substrate in some embodiments includes a planarization layer PLN, an anode layer ADL on the planarization layer PLN, a pixel definition layer PDL on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, a light emitting layer EML on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, an encapsulating layer EN on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, an insulating layer IN on a side of the encapsulating layer EN away from the planarization layer PLN, a touch electrode layer TEL on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, an organic material layer OML on a side of the touch electrode layer TEL away from the insulating layer IN, a color filter CF on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN, a black matrix BM on a side of the color filter CF away from the planarization layer PLN, and a second coating layer OC2 on a side of the color filter CF and the black matrix BM away from the planarization layer PLN.

[0120] The array substrate depicted in FIG. 10 differs from the array substrate depicted in FIG. 8 in that the black matrix BM in the array substrate depicted in FIG. 10 is on a side of a portion of the color filter CF in the light non-transmissive region LNTR away from the first coating layer OC1. In the array substrate depicted in FIG. 8, a portion of the color filter CF in the light non-transmissive region LNTR is on a side of the black matrix BM away from the first coating layer OC1.

[0121] In some embodiments, in the light non-transmissive region LNTR, the array substrate includes a stacked structure comprising the first portion P1, a portion of the color filter CF on the first portion P1, the black matrix BM on a side of the portion of the color filter CF away from the first portion P1, and the second coating layer OC2 on a side of the black matrix BM away from the portion of the color filter CF, sequentially arranged.

[0122] FIG. 11 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 11, the array substrate in some embodiments includes a planarization layer PLN, an anode layer ADL on the planarization layer PLN, a pixel definition layer PDL on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, a light emitting layer EML on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, an encapsulating layer EN on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, an insulating layer IN on a side of the encapsulating layer EN away from the planarization layer PLN, a touch electrode layer TEL on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a black matrix BM on a side of the touch electrode layer TEL away from the insulating layer IN, an organic material layer OML on a side of the black matrix BM away from the insulating layer IN, a color filter CF on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN, and a second coating layer OC2 on a side of the color filter CF away from the planarization layer PLN.

[0123] Optionally, the encapsulating layer EN includes an inorganic encapsulating sublayer CTD on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, and an organic encapsulating sublayer TFE on a side of the inorganic encapsulating sublayer CTD away from the planarization layer PLN.

[0124] Optionally, the color filter CF includes a plurality of color filter blocks CFB.

[0125] Optionally, the light emitting layer EML includes a plurality of light emitting blocks EMB.

[0126] Optionally, the second coating layer OC2 is made of an organic insulating material.

[0127] In some embodiments, the array substrate includes a plurality of light transmissive regions LTR spaced apart from each other by a light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, a respective light emitting block of the plurality of light emitting blocks is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR. In some embodiments, a respective color filter block of the plurality of color filter blocks CFB is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR.

[0128] In some embodiments, the black matrix BM is at least partially in the light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, the pixel definition layer PDL is at least partially in the light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, the organic material layer OML is at least partially in the light non-transmissive region LNTR.

[0129] In some embodiments, the organic material layer OML is in direct contact with the color filter CF, and is in direct contact with the insulating layer IN. In some embodiments, the organic material layer OML is in direct contact with the black matrix BM. In some embodiments, the organic material layer OML extends through the plurality of light transmissive regions LTR and the light non-transmissive region LNTR.

[0130] In some embodiments, an orthographic projection of the organic material layer OML on a base substrate at least partially overlaps with an orthographic projection of the color filter CF on the base substrate. In some embodiments, an orthographic projection of the organic material layer OML on a base substrate at least partially overlaps with an orthographic projection of the black matrix BM on the base substrate.

[0131] The inventors of the present disclosure discover that the organic material layer OML functions as an intermediate layer to improve adhesion between the color filter CF and the insulating layer IN. Enhanced adhesion reduces risks of peeling or delamination during reliability testing. The placement of the organic material layer OML in close association with the color filter CF and its presence in the plurality of light transmissive regions LTR may aid in reducing unwanted reflections or improving the efficiency of light passing through the color filter CF.

[0132] In some embodiments, a refractive index of the organic material layer OML is less than a refractive index of the color filter CF. In one example, the refractive index of the color filter CF is in a range of 1.65 to 1.75. In another example, the refractive index of the organic material layer OML is in a range of 1.45 to 1.50. In another example, a refractive index of the second coating layer OC2 is in a range of 1.45 to 1.50.

[0133] In one particular example, the organic material layer OML includes an organic resin material.

[0134] In some embodiments, the organic material layer OML includes a first portion P1 and a plurality of second portions P2. A respective second portion of the plurality of second portions P2 is surrounded by the first portion P1. In some embodiments, the first portion P1 has a first thickness t1, and the plurality of second portions P2 has a second thickness t2. Optionally, the first thickness t1 is greater than the second thickness t2. In some embodiments, a difference between the first thickness t1 and the second thickness t2 is within 10% (e.g., 9%, 8%, 7%, 6%, 5%, 4%, 3%, 2%, 1%) of the second thickness t2. In one example, the first thickness t1 is a range of 0.5 to 1.0 μm. In another example, the second thickness t2 is in a range of 0.5 to 1.0 μm.

[0135] In some embodiments, the black matrix BM has a slope angle in a range of 45 degrees to 85 degrees.

[0136] In some embodiments, a respective second portion of the plurality of second portions P2 is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR, and is at least partially outside the light non-transmissive region LNTR. Optionally, the first portion P1 is at least partially in the light non-transmissive region LNTR, and is at least partially outside the respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR.

[0137] In some embodiments, in the light non-transmissive region LNTR, the array substrate includes a stacked structure comprising the black matrix BM, the first portion P1 on the black matrix BM, a portion of the color filter CF on a side of the first portion P1 away from the black matrix BM, and the second coating layer OC2 on a side of the portion of the color filter CF away from the first portion P1, sequentially arranged.

[0138] FIG. 12 is a plan view of a pixel definition layer, a black matrix, and a respective second portion of a plurality of second portions in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 11 and FIG. 12, with respect to a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR, a fifth edge E5 of an orthographic projection of the black matrix BM on a base substrate is spaced apart from a second edge E2 of an orthographic projection of the pixel definition layer PDL on the base substrate by a fifth shortest distance d5, wherein the second edge E2 surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective second portion of the plurality of second portions P2 on the base substrate. Optionally, the fifth shortest distance d5 ≥ 0. In one example, the fifth shortest distance d5 is in a range of 0 to 3 μm.

[0139] In one example, the black matrix BM has a thickness in a range of 1.5 to 2.5 μm. In another example, an edge of the black matrix BM is spaced apart from a top edge of the first portion P1 by a shortest distance in a range of 0 to 4 μm.

[0140] In one example, the color filter CF has a thickness in a range of 2 to 4 μm. In another example, an orthographic projection of a respective color filter block of the color filter CF on a base substrate overlaps with an orthographic projection of the black matrix BM on the base substrate by a margin in a range of 0 to 6 μm.

[0141] In one example, the second coating layer OC2 has a thickness in a range of 3 to 6 μm.

[0142] FIG. 13 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 13, the array substrate in some embodiments includes a planarization layer PLN, an anode layer ADL on the planarization layer PLN, a pixel definition layer PDL on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, a light emitting layer EML on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, an encapsulating layer EN on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, an insulating layer IN on a side of the encapsulating layer EN away from the planarization layer PLN, a touch electrode layer TEL on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a black matrix BM on a side of the touch electrode layer TEL away from the insulating layer IN, an organic material layer OML on a side of the black matrix BM away from the insulating layer IN, a color filter CF on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN, and a second coating layer OC2 on a side of the color filter CF away from the planarization layer PLN.

[0143] Optionally, the encapsulating layer EN includes an inorganic encapsulating sublayer CTD on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, and an organic encapsulating sublayer TFE on a side of the inorganic encapsulating sublayer CTD away from the planarization layer PLN.

[0144] Optionally, the color filter CF includes a plurality of color filter blocks CFB.

[0145] Optionally, the light emitting layer EML includes a plurality of light emitting blocks EMB.

[0146] Optionally, the second coating layer OC2 is made of an organic insulating material.

[0147] In some embodiments, the array substrate includes a plurality of light transmissive regions LTR spaced apart from each other by a light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, a respective light emitting block of the plurality of light emitting blocks is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR. In some embodiments, a respective color filter block of the plurality of color filter blocks CFB is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR.

[0148] In some embodiments, the black matrix BM is at least partially in the light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, the pixel definition layer PDL is at least partially in the light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, the organic material layer OML is at least partially in the light non-transmissive region LNTR.

[0149] In some embodiments, the organic material layer OML is in direct contact with the color filter CF, and is in direct contact with the insulating layer IN. In some embodiments, the organic material layer OML is in direct contact with the black matrix BM. In some embodiments, the organic material layer OML is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR, and is at least partially absent in the light non-transmissive region LNTR.

[0150] In some embodiments, an orthographic projection of the organic material layer OML on a base substrate at least partially overlaps with an orthographic projection of the color filter CF on the base substrate. In some embodiments, an orthographic projection of the organic material layer OML on a base substrate is at least partially non-overlapping with an orthographic projection of the black matrix BM on the base substrate.

[0151] In some embodiments, the organic material layer OML includes a plurality of organic material blocks OMB. In some embodiments, a respective organic material block of the plurality of organic material blocks OMB is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR, and is at least partially outside the light non-transmissive region LNTR.

[0152] In some embodiments, an orthographic projection of a respective organic material block of the plurality of organic material blocks OMB on a base substrate at least partially overlaps with an orthographic projection of the color filter CF on the base substrate. In some embodiments, an orthographic projection of the respective organic material block of the plurality of organic material blocks OMB on a base substrate is at least partially non-overlapping with an orthographic projection of the black matrix BM on the base substrate.

[0153] The inventors of the present disclosure discover that the organic material layer OML functions as an intermediate layer to improve adhesion between the color filter CF and the insulating layer IN. Enhanced adhesion reduces risks of peeling or delamination during reliability testing. The placement of the organic material layer OML in close association with the color filter CF and its presence in the plurality of light transmissive regions LTR may aid in reducing unwanted reflections or improving the efficiency of light passing through the color filter CF.

[0154] In some embodiments, a refractive index of the organic material layer OML is less than a refractive index of the color filter CF. In one example, the refractive index of the color filter CF is in a range of 1.65 to 1.75. In another example, the refractive index of the organic material layer OML is in a range of 1.45 to 1.50. In another example, a refractive index of the second coating layer OC2 is in a range of 1.45 to 1.50.

[0155] In one particular example, the organic material layer OML includes an organic resin material.

[0156] In some embodiments, the black matrix BM has a slope angle in a range of 45 degrees to 85 degrees.

[0157] In some embodiments, in the light non-transmissive region LNTR, the array substrate includes a stacked structure comprising the black matrix BM, a portion of the color filter CF on the black matrix BM, and the second coating layer OC2 on a side of the portion of the color filter CF away from the black matrix BM, sequentially arranged.

[0158] FIG. 14 is a plan view of a pixel definition layer, a black matrix, and a respective organic material block of a plurality of organic material blocks in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 13 and FIG. 14, with respect to a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR, a fifth edge E5 of an orthographic projection of the black matrix BM on a base substrate is spaced apart from a second edge E2 of an orthographic projection of the pixel definition layer PDL on the base substrate by a fifth shortest distance d5, wherein the second edge E2 surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective organic material block on the base substrate. Optionally, the fifth shortest distance d5 ≥ 0. In one example, the fifth shortest distance d5 is in a range of 0 to 3 μm.

[0159] In some embodiments, with respect to a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR, a fifth edge E5 of an orthographic projection of the black matrix BM on a base substrate is spaced apart from a first edge E1 of an orthographic projection of a respective organic material block of the plurality of organic material blocks OMB on the base substrate by a sixth shortest distance d6. Optionally, the sixth shortest distance d6 ≥ 0. In one example, the sixth shortest distance d6 is in a range of 0 to 3 μm.

[0160] In one example, the black matrix BM has a thickness in a range of 1.5 to 2.5 μm. In another example, an edge of the black matrix BM is spaced apart from a top edge of the first portion P1 by a shortest distance in a range of 0 to 4 μm.

[0161] In one example, the color filter CF has a thickness in a range of 2 to 4 μm. In another example, an orthographic projection of a respective color filter block of the color filter CF on a base substrate overlaps with an orthographic projection of the black matrix BM on the base substrate by a margin in a range of 0 to 6 μm.

[0162] In one example, the second coating layer OC2 has a thickness in a range of 3 to 6 μm.

[0163] FIG. 15 is a plan view of a pixel definition layer, a black matrix, and a respective organic material block of a plurality of organic material blocks in some embodiments according to the present disclosure. FIG. 16 is a zoom-in view of FIG. 15. FIG. 17 is a schematic diagram illustrating the structure of a pixel definition layer in some embodiments according to the present disclosure. FIG. 18 is a schematic diagram illustrating the structure of a black matrix in some embodiments according to the present disclosure. FIG. 19 is a schematic diagram illustrating the structure of an organic material layer in some embodiments according to the present disclosure.

[0164] FIG. 20 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 20, the array substrate in some embodiments includes a planarization layer PLN, an anode layer ADL on the planarization layer PLN, a pixel definition layer PDL on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, a light emitting layer EML on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, an encapsulating layer EN on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, an insulating layer IN on a side of the encapsulating layer EN away from the planarization layer PLN, a touch electrode layer TEL on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a first coating layer OC1 on a side of the touch electrode layer TEL away from the planarization layer PLN, an organic material layer OML on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a color filter CF on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN, a black matrix BM on a side of the first coating layer OC1 away from the planarization layer PLN, and a second coating layer OC2 on a side of the color filter CF away from the planarization layer PLN.

[0165] Optionally, the encapsulating layer EN includes an inorganic encapsulating sublayer CTD on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, and an organic encapsulating sublayer TFE on a side of the inorganic encapsulating sublayer CTD away from the planarization layer PLN.

[0166] Optionally, the color filter CF includes a plurality of color filter blocks CFB.

[0167] Optionally, the light emitting layer EML includes a plurality of light emitting blocks EMB.

[0168] Optionally, the first coating layer OC1 is made of an organic insulating material. Optionally, the second coating layer OC2 is made of an organic insulating material.

[0169] In some embodiments, the array substrate includes a plurality of light transmissive regions LTR spaced apart from each other by a light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, a respective light emitting block of the plurality of light emitting blocks is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR. In some embodiments, a respective color filter block of the plurality of color filter blocks CFB is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR.

[0170] In some embodiments, the black matrix BM is at least partially in the light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, the pixel definition layer PDL is at least partially in the light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, the first coating layer OC1 is at least partially in the light non-transmissive region LNTR.

[0171] In some embodiments, the organic material layer OML is in direct contact with the color filter CF, and is in direct contact with the insulating layer IN. In some embodiments, the organic material layer OML is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR.

[0172] In some embodiments, an orthographic projection of the organic material layer OML on a base substrate at least partially overlaps with an orthographic projection of the color filter CF on the base substrate.

[0173] The inventors of the present disclosure discover that the organic material layer OML functions as an intermediate layer to improve adhesion between the color filter CF and the insulating layer IN. Enhanced adhesion reduces risks of peeling or delamination during reliability testing. The placement of the organic material layer OML in close association with the color filter CF and its presence in the plurality of light transmissive regions LTR may aid in reducing unwanted reflections or improving the efficiency of light passing through the color filter CF.

[0174] In some embodiments, a refractive index of the organic material layer OML is less than a refractive index of the color filter CF. In one example, the refractive index of the color filter CF is in a range of 1.65 to 1.75. In another example, the refractive index of the organic material layer OML is in a range of 1.45 to 1.50. In another example, a refractive index of the second coating layer OC2 is in a range of 1.45 to 1.50.

[0175] In one particular example, the organic material layer OML includes an organic resin material.

[0176] In some embodiments, the organic material layer OML includes a plurality of organic material blocks OMB. In some embodiments, a respective organic material block of the plurality of organic material blocks OMB is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR, and is at least partially outside the light non-transmissive region LNTR.

[0177] In some embodiments, in the light non-transmissive region LNTR, the array substrate includes a stacked structure comprising the first coating layer OC1, the black matrix BM on the first coating layer OC1, a portion of the color filter CF on a side of the black matrix BM away from the first coating layer OC1, and the second coating layer OC2 on a side of the portion of the color filter CF away from the black matrix BM, sequentially arranged.

[0178] FIG. 21 is a plan view of a pixel definition layer, a first coating layer, a black matrix, and a respective organic material block of a plurality of organic material blocks in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 20 and FIG. 21, with respect to a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR, a third edge E3 of an orthographic projection of the first coating layer OC1 on a base substrate is spaced apart from a second edge E2 of an orthographic projection of the pixel definition layer PDL on the base substrate by a seventh shortest distance d7, wherein the second edge E2 surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective organic material block on the base substrate. Optionally, the seventh shortest distance d7 ≥ 0. In one example, the seventh shortest distance d7 is in a range of 0 to 3 μm.

[0179] In some embodiments, a first edge E1 of an orthographic projection of a respective organic material block of the plurality of organic material blocks OMB on a base substrate is spaced apart from a sixth edge E6 of an orthographic projection of a top edge of the first coating layer OC1 on the base substrate by an eighth shortest distance d8, wherein the sixth edge E6 surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective organic material block on the base substrate. Optionally, the eighth shortest distance d8 ≥ 0. In one example, the eighth shortest distance d8 is in a range of 0 to 3 μm.

[0180] In some embodiments, the first edge E1 is spaced apart from a fifth edge E5 of an orthographic projection of the black matrix BM on the base substrate by a ninth shortest distance d9, wherein the fifth edge E5 surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective organic material block on the base substrate. Optionally, the ninth shortest distance d9 ≥ 0. In one example, the ninth shortest distance d9 is in a range of 0 to 3 μm.

[0181] In one example, the organic material layer OML has a thickness in a range of 0.5 to 1.0 μm.

[0182] In one example, the first coating layer OC1 has a thickness in a range of 1.5 to 2.5 μm. In another example, the first coating layer OC1 has a slope angle in a range of 45 degrees to 85 degrees.

[0183] In one example, the black matrix BM has a thickness in a range of 1 to 2 μm.

[0184] In one example, the color filter CF has a thickness in a range of 2 to 4 μm. In another example, an orthographic projection of a respective color filter block of the color filter CF on a base substrate overlaps with an orthographic projection of the first coating layer OC1 on the base substrate by a margin in a range of 0 to 6 μm.

[0185] In one example, the second coating layer OC2 has a thickness in a range of 3 to 6 μm.

[0186] FIG. 22 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 22, the array substrate in some embodiments includes a planarization layer PLN, an anode layer ADL on the planarization layer PLN, a pixel definition layer PDL on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, a light emitting layer EML on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, an encapsulating layer EN on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, an insulating layer IN on a side of the encapsulating layer EN away from the planarization layer PLN, a touch electrode layer TEL on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a first coating layer OC1 on a side of the touch electrode layer TEL away from the planarization layer PLN, an organic material layer OML on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a color filter CF on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN, a black matrix BM on a side of the color filter CF and the first coating layer OC1 away from the planarization layer PLN, and a second coating layer OC2 on a side of the color filter CF away from the planarization layer PLN.

[0187] The array substrate depicted in FIG. 22 differs from the array substrate depicted in FIG. 20 in that the black matrix BM in the array substrate depicted in FIG. 22 is on a side of a portion of the color filter CF in the light non-transmissive region LNTR away from the first coating layer OC1. In the array substrate depicted in FIG. 20, a portion of the color filter CF in the light non-transmissive region LNTR is on a side of the black matrix BM away from the first coating layer OC1.

[0188] In some embodiments, in the light non-transmissive region LNTR, the array substrate includes a stacked structure comprising the first coating layer OC1, a portion of the color filter CF on the first coating layer OC1, the black matrix BM on a side of the portion of the color filter CF away from the first coating layer OC1, and the second coating layer OC2 on a side of the black matrix BM away from the portion of the color filter CF, sequentially arranged.

[0189] FIG. 23 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 23, the array substrate in some embodiments includes a planarization layer PLN, an anode layer ADL on the planarization layer PLN, a pixel definition layer PDL on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, a light emitting layer EML on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, an encapsulating layer EN on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, an insulating layer IN on a side of the encapsulating layer EN away from the planarization layer PLN, a touch electrode layer TEL on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a first coating layer OC1 on a side of the touch electrode layer TEL away from the planarization layer PLN, an organic material layer OML on a side of the first coating layer OC1 away from the planarization layer PLN, a black matrix BM on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN, a color filter CF on a side of the black matrix BM and the organic material layer OML away from the planarization layer PLN, and a second coating layer OC2 on a side of the color filter CF away from the planarization layer PLN.

[0190] The array substrate depicted in FIG. 23 differs from the array substrate depicted in FIG. 20 in that the organic material layer OML in the array substrate depicted in FIG. 23 is a unitary structure, e.g., extending through the plurality of light transmissive regions LTR and the light non-transmissive region LNTR. In some embodiments, an orthographic projection of the organic material layer OML on a base substrate covers an orthographic projection of the color filter CF on the base substrate, and covers an orthographic projection of the black matrix BM on the base substrate.

[0191] In some embodiments, in the light non-transmissive region LNTR, the array substrate includes a stacked structure comprising the first coating layer OC1, the organic material layer OML on the first coating layer OC1, the black matrix BM on a side of the organic material layer OML away from the first coating layer OC1, a portion of the color filter CF on a side of the black matrix BM away from the organic material layer OML, and the second coating layer OC2 on a side of the portion of the color filter CF away from the black matrix BM, sequentially arranged.

[0192] FIG. 24 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 24, the array substrate in some embodiments includes a planarization layer PLN, an anode layer ADL on the planarization layer PLN, a pixel definition layer PDL on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, a light emitting layer EML on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, an encapsulating layer EN on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, an insulating layer IN on a side of the encapsulating layer EN away from the planarization layer PLN, a touch electrode layer TEL on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a first coating layer OC1 on a side of the touch electrode layer TEL away from the planarization layer PLN, an organic material layer OML on a side of the first coating layer OC1 away from the planarization layer PLN, a color filter CF on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN, a black matrix BM on a side of the color filter CF away from the planarization layer PLN, and a second coating layer OC2 on a side of the black matrix BM away from the planarization layer PLN.

[0193] The array substrate depicted in FIG. 24 differs from the array substrate depicted in FIG. 23 in that the black matrix BM in the array substrate depicted in FIG. 24 is on a side of a portion of the color filter CF in the light non-transmissive region LNTR away from the first coating layer OC1. In the array substrate depicted in FIG. 23, a portion of the color filter CF in the light non-transmissive region LNTR is on a side of the black matrix BM away from the first coating layer OC1.

[0194] In some embodiments, in the light non-transmissive region LNTR, the array substrate includes a stacked structure comprising the first coating layer OC1, the organic material layer OML on the first coating layer OC1, a portion of the color filter CF on a side of the organic material layer OML away from the first coating layer OC1, the black matrix BM on a side of the portion of the color filter CF away from the organic material layer OML, and the second coating layer OC2 on a side of the black matrix BM away from the portion of the color filter CF, sequentially arranged.

[0195] FIG. 25 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 25, the array substrate in some embodiments includes a planarization layer PLN, an anode layer ADL on the planarization layer PLN, a pixel definition layer PDL on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, a light emitting layer EML on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, an encapsulating layer EN on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, an insulating layer IN on a side of the encapsulating layer EN away from the planarization layer PLN, a touch electrode layer TEL on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a first coating layer OC1 on a side of the touch electrode layer TEL away from the planarization layer PLN, a black matrix BM on a side of the first coating layer OC1 away from the planarization layer PLN, an organic material layer OML on a side of the black matrix BM away from the planarization layer PLN, a color filter CF on a side of the organic material layer OML and the black matrix BM away from the planarization layer PLN, and a second coating layer OC2 on a side of the color filter CF away from the planarization layer PLN.

[0196] The array substrate depicted in FIG. 25 differs from the array substrate depicted in FIG. 20 in that the organic material layer OML in the array substrate depicted in FIG. 25 is on a side of the black matrix BM away from the planarization layer PLN. In the array substrate depicted in FIG. 20, the black matrix BM is on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN.

[0197] In some embodiments, in the light non-transmissive region LNTR, the array substrate includes a stacked structure comprising the first coating layer OC1, the black matrix BM on the first coating layer OC1, the organic material layer OML on a side of the black matrix BM away from the first coating layer OC1, a portion of the color filter CF on a side of the organic material layer OML away from the black matrix BM, and the second coating layer OC2 on a side of the portion of the color filter CF away from the organic material layer OML and the black matrix BM, sequentially arranged.

[0198] FIG. 26 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 26, the array substrate in some embodiments includes a planarization layer PLN, an anode layer ADL on the planarization layer PLN, a pixel definition layer PDL on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, a light emitting layer EML on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, an encapsulating layer EN on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, an insulating layer IN on a side of the encapsulating layer EN away from the planarization layer PLN, a touch electrode layer TEL on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a first coating layer OC1 on a side of the touch electrode layer TEL away from the planarization layer PLN, a black matrix BM on a side of the first coating layer OC1 away from the planarization layer PLN, an organic material layer OML on a side of the black matrix BM away from the planarization layer PLN, a color filter CF on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN, and a second coating layer OC2 on a side of the color filter CF away from the planarization layer PLN.

[0199] The array substrate depicted in FIG. 26 differs from the array substrate depicted in FIG. 23 in that the organic material layer OML in the array substrate depicted in FIG. 26 is on a side of the black matrix BM away from the planarization layer PLN. In the array substrate depicted in FIG. 23, the black matrix BM is on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN.

[0200] In some embodiments, in the light non-transmissive region LNTR, the array substrate includes a stacked structure comprising the first coating layer OC1, the black matrix BM on the first coating layer OC1, the organic material layer OML on a side of the black matrix BM away from the first coating layer OC1, a portion of the color filter CF on a side of the organic material layer OML away from the black matrix BM, and the second coating layer OC2 on a side of the portion of the color filter CF away from the organic material layer OML and the black matrix BM, sequentially arranged.

[0201] FIG. 27 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 27, the array substrate in some embodiments includes a planarization layer PLN, an anode layer ADL on the planarization layer PLN, a pixel definition layer PDL on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, a light emitting layer EML on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, an encapsulating layer EN on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, an insulating layer IN on a side of the encapsulating layer EN away from the planarization layer PLN, a touch electrode layer TEL on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a first coating layer OC1 on a side of the touch electrode layer TEL away from the planarization layer PLN, an organic material layer OML on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a color filter CF on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN, and a second coating layer OC2 on a side of the color filter CF away from the planarization layer PLN.

[0202] The array substrate depicted in FIG. 27 differs from the array substrate depicted in FIG. 20 in that the array substrate depicted in FIG. 27 does not have a black matrix. In the array substrate depicted in FIG. 27, in the light non-transmissive region LNTR, the array substrate includes a stacked structure comprising at least three sublayers of color filter, wherein the three sublayers are of three different color. The stacked structure in the light non-transmissive region LNTR functions as a light blocking structure.

[0203] In some embodiments, in the light non-transmissive region LNTR, the array substrate includes a stacked structure comprising the first coating layer OC1, the stacked structure comprising at least three sublayers of color filter, and the second coating layer OC2 on a side of the stacked structure comprising at least three sublayers of color filter away from the first coating layer OC1, sequentially arranged.

[0204] FIG. 28 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 28, the array substrate in some embodiments includes a planarization layer PLN, an anode layer ADL on the planarization layer PLN, a pixel definition layer PDL on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, a light emitting layer EML on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, an encapsulating layer EN on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, an insulating layer IN on a side of the encapsulating layer EN away from the planarization layer PLN, a touch electrode layer TEL on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a first coating layer OC1 on a side of the touch electrode layer TEL away from the planarization layer PLN, an organic material layer OML on a side of the first coating layer OC1 away from the planarization layer PLN, a color filter CF on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN, and a second coating layer OC2 on a side of the color filter CF away from the planarization layer PLN.

[0205] The array substrate depicted in FIG. 28 differs from the array substrate depicted in FIG. 23 in that the array substrate depicted in FIG. 28 does not have a black matrix. In the array substrate depicted in FIG. 28, in the light non-transmissive region LNTR, the array substrate includes a stacked structure comprising at least three sublayers of color filter, wherein the three sublayers are of three different color. The stacked structure in the light non-transmissive region LNTR functions as a light blocking structure.

[0206] In some embodiments, in the light non-transmissive region LNTR, the array substrate includes a stacked structure comprising the first coating layer OC1, the organic material layer OML on the first coating layer OC1, the stacked structure comprising at least three sublayers of color filter on a side of the organic material layer OML away from the first coating layer OC1, and the second coating layer OC2 on a side of the stacked structure comprising at least three sublayers of color filter away from the black matrix BM, sequentially arranged.

[0207] FIG. 29 is a schematic diagram illustrating the structure of an array substrate in some embodiments according to the present disclosure. Referring to FIG. 29, the array substrate in some embodiments includes a planarization layer PLN, an anode layer ADL on the planarization layer PLN, a pixel definition layer PDL on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, a light emitting layer EML on a side of the anode layer ADL away from the planarization layer PLN, an encapsulating layer EN on a side of the light emitting layer EML away from the planarization layer PLN, an insulating layer IN on a side of the encapsulating layer EN away from the planarization layer PLN, a touch electrode layer TEL on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a first coating layer OC1 on a side of the touch electrode layer TEL away from the planarization layer PLN, an organic material layer OML on a side of the insulating layer IN away from the planarization layer PLN, a color filter CF on a side of the organic material layer OML away from the planarization layer PLN, a black matrix BM on a side of the first coating layer OC1 away from the planarization layer PLN, and a second coating layer OC2 on a side of the color filter CF away from the planarization layer PLN.

[0208] The array substrate depicted in FIG. 29 differs from the array substrate depicted in FIG. 20 in that, in the array substrate depicted in FIG. 28, the insulating layer IN is at least partially absent in the respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions LTR.

[0209] In another aspect, the present invention provides a display apparatus, including the array substrate described herein or fabricated by a method described herein, and one or more integrated circuits connected to the array substrate. Examples of appropriate display apparatuses include, but are not limited to, an electronic paper, a mobile phone, a tablet computer, a television, a monitor, a notebook computer, a digital album, a GPS, etc. Optionally, the display apparatus is an organic light emitting diode display apparatus. Optionally, the display apparatus is a micro light emitting diode display apparatus. Optionally, the display apparatus is a mini light emitting diode display apparatus.

[0210] In another aspect, the present disclosure provides a method of fabricating an array substrate. In some embodiments, the method includes forming a planarization layer; forming a pixel definition layer on the planarization layer; forming a light emitting layer on a side of the pixel definition layer away from the planarization layer; forming an insulation layer on a side of the light emitting layer away from the planarization layer; forming an organic material layer on a side of the insulation layer away from the planarization layer; and forming a color filter on a side of the organic material layer away from the planarization layer. Optionally, the organic material layer is in direct contact with the color filter.

[0211] The foregoing description of the embodiments of the invention has been presented for purposes of illustration and description. It is not intended to be exhaustive or to limit the invention to the precise form or to exemplary embodiments disclosed. Accordingly, the foregoing description should be regarded as illustrative rather than restrictive. Obviously, many modifications and variations will be apparent to practitioners skilled in this art. The embodiments are chosen and described in order to explain the principles of the invention and its best mode practical application, thereby to enable persons skilled in the art to understand the invention for various embodiments and with various modifications as are suited to the particular use or implementation contemplated. It is intended that the scope of the invention be defined by the claims appended hereto and their equivalents in which all terms are meant in their broadest reasonable sense unless otherwise indicated. Therefore, the term “the invention” , “the present invention” or the like does not necessarily limit the claim scope to a specific embodiment, and the reference to exemplary embodiments of the invention does not imply a limitation on the invention, and no such limitation is to be inferred. The invention is limited only by the spirit and scope of the appended claims. Moreover, these claims may refer to use “first” , “second” , etc. following with noun or element. Such terms should be understood as a nomenclature and should not be construed as giving the limitation on the number of the elements modified by such nomenclature unless specific number has been given. Any advantages and benefits described may not apply to all embodiments of the invention. It should be appreciated that variations may be made in the embodiments described by persons skilled in the art without departing from the scope of the present invention as defined by the following claims. Moreover, no element and component in the present disclosure is intended to be dedicated to the public regardless of whether the element or component is explicitly recited in the following claims.

Claims

1.An array substrate, comprising:a planarization layer;a pixel definition layer on the planarization layer;a light emitting layer on a side of the pixel definition layer away from the planarization layer;an insulation layer on a side of the light emitting layer away from the planarization layer;an organic material layer on a side of the insulation layer away from the planarization layer; anda color filter on a side of the organic material layer away from the planarization layer;wherein the organic material layer is in direct contact with the color filter.2.The array substrate of claim 1, comprising a light non-transmissive region, and a plurality of light transmissive regions spaced apart from each other by the light non-transmissive region;wherein the color filter comprises a plurality of color filter blocks; anda respective color filter block of the plurality of color filter blocks is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions;wherein the array substrate further comprises a black matrix at least partially in the light non-transmissive region.3.The array substrate of claim 2, further comprising a first coating layer on a side of the insulating layer away from the planarization layer;wherein the first coating layer is at least partially in the light non-transmissive region.4.The array substrate of claim 3, wherein the organic material layer comprises a plurality of organic material blocks;a respective organic material block of the plurality of organic material blocks is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, and is at least partially outside the light non-transmissive region; andin the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising the first coating layer, the black matrix on the first coating layer, and a portion of the color filter on a side of the black matrix away from the first coating layer, sequentially arranged.5.The array substrate of claim 3, wherein the organic material layer extends through the plurality of light transmissive regions and the light non-transmissive region;an orthographic projection of the organic material layer on a base substrate covers an orthographic projection of the color filter on the base substrate, and covers an orthographic projection of the black matrix on the base substrate; andin the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising a portion of the organic material layer, the first coating layer on the portion of the organic material layer, the black matrix on a side of the first coating layer away from the portion of the organic material layer, and a portion of the color filter on a side of the black matrix away from the first coating layer, sequentially arranged.6.The array substrate of claim 3, wherein the black matrix is on a side of a portion of the color filter in the light non-transmissive region away from the first coating layer; andin the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising the first coating layer, a portion of the color filter on the first coating layer, and the black matrix on a side of the portion of the color filter away from the first coating layer, sequentially arranged.7.The array substrate of claim 2, wherein the organic material layer extends through the plurality of light transmissive regions and the light non-transmissive region;an orthographic projection of the organic material layer on a base substrate at least partially overlaps with an orthographic projection of the color filter on the base substrate; and at least partially overlaps with an orthographic projection of the black matrix on the base substrate;the organic material layer comprises a first portion and a plurality of second portions;a respective second portion of the plurality of second portions is surrounded by the first portion;a respective second portion of the plurality of second portions is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, and is at least partially outside the light non-transmissive region; andthe first portion is at least partially in the light non-transmissive region, and is at least partially outside the respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions.8.The array substrate of claim 7, wherein a portion of the color filter in the light non-transmissive region is on a side of the black matrix away from the first coating layer; andin the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising the first portion, the black matrix on the first portion, and a portion of the color filter on a side of the black matrix away from the first portion, sequentially arranged.9.The array substrate of claim 7, wherein the black matrix is on a side of a portion of the color filter in the light non-transmissive region away from the first coating layer; andin the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising the first portion, a portion of the color filter on the first portion, and the black matrix on a side of the portion of the color filter away from the first portion, sequentially arranged.10.The array substrate of claim 2, wherein the black matrix is on a side of the insulating layer away from the planarization layer; andthe organic material layer is on a side of the black matrix away from the planarization layer.11.The array substrate of claim 10, wherein the organic material layer comprises a first portion and a plurality of second portions;a respective second portion of the plurality of second portions is surrounded by the first portion;a respective second portion of the plurality of second portions is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, and is at least partially outside the light non-transmissive region;the first portion is at least partially in the light non-transmissive region, and is at least partially outside the respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions; andin the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising the black matrix, the first portion on the black matrix, and a portion of the color filter on a side of the first portion away from the black matrix, sequentially arranged.12.The array substrate of claim 10, wherein the organic material layer comprises a plurality of organic material blocks;a respective organic material block of the plurality of organic material blocks is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, and is at least partially outside the light non-transmissive region; andin the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising the black matrix, and a portion of the color filter on the black matrix, sequentially arranged.13.The array substrate of claim 3, wherein the organic material layer is on a side of the first coating layer away from the planarization layer.14.The array substrate of claim 3, wherein, in the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising the first coating layer, the organic material layer on the first coating layer, the black matrix on a side of the organic material layer away from the first coating layer, and a portion of the color filter on a side of the black matrix away from the organic material layer, sequentially arranged.15.The array substrate of claim 3, wherein, in the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising the first coating layer, the organic material layer on the first coating layer, a portion of the color filter on a side of the organic material layer away from the first coating layer, and the black matrix on a side of the portion of the color filter away from the organic material layer, sequentially arranged.16.The array substrate of claim 3, wherein, in the light non-transmissive region, the array substrate comprises a stacked structure comprising the first coating layer, the black matrix on the first coating layer, the organic material layer on a side of the black matrix away from the first coating layer, and a portion of the color filter on a side of the organic material layer away from the black matrix, sequentially arranged.17.The array substrate of claim 1, comprising a light non-transmissive region, and a plurality of light transmissive regions spaced apart from each other by the light non-transmissive region;wherein the color filter comprises a plurality of color filter blocks; anda respective color filter block of the plurality of color filter blocks is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions;wherein the array substrate further comprises, in the light non-transmissive region, a stacked structure comprising at least three sublayers of color filter, wherein the three sublayers are of three different color.18.The array substrate of claim 1, comprising a light non-transmissive region, and a plurality of light transmissive regions spaced apart from each other by the light non-transmissive region;wherein the color filter comprises a plurality of color filter blocks; anda respective color filter block of the plurality of color filter blocks is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions;wherein the insulating layer is at least partially absent in the respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions.19.The array substrate of claim 2, wherein, with respect to a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, a first edge of an orthographic projection of a respective organic material block of the plurality of organic material blocks on a base substrate is spaced apart from a second edge of an orthographic projection of the pixel definition layer on the base substrate by a first shortest distance;the second edge surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective organic material block on the base substrate;the second edge is spaced apart from a third edge of an orthographic projection of the first coating layer on the base substrate by a second shortest distance, wherein the third edge surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective organic material block on the base substrate;the first edge is spaced apart from the third edge by a third shortest distance;the first shortest distance d1 ≥ 0;the second shortest distance d2 ≥ 0; andthe third shortest distance d3 ≥ 0.20.The array substrate of claim 2, wherein the organic material layer comprises a first portion and a plurality of second portions;a respective second portion of the plurality of second portions is surrounded by the first portion;a respective second portion of the plurality of second portions is at least partially in a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, and is at least partially outside the light non-transmissive region;the first portion is at least partially in the light non-transmissive region, and is at least partially outside the respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions;with respect to a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, a fourth edge of an orthographic projection of a respective second portion of the plurality of second portions on a base substrate is spaced apart from a second edge of an orthographic projection of the pixel definition layer on the base substrate by a fourth shortest distance;the second edge surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective second portion on the base substrate; andthe fourth shortest distance d4 ≥ 0.21.The array substrate of claim 2, wherein, with respect to a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, a fifth edge of an orthographic projection of the black matrix on a base substrate is spaced apart from a second edge of an orthographic projection of the pixel definition layer on the base substrate by a fifth shortest distance;the second edge surrounds at least a portion of an orthographic projection of a respective second portion of the plurality of second portions on the base substrate; andthe fifth shortest distance d5 ≥ 0.22.The array substrate of claim 2, wherein, with respect to a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, a fifth edge of an orthographic projection of the black matrix on a base substrate is spaced apart from a second edge of an orthographic projection of the pixel definition layer on the base substrate by a fifth shortest distance;the second edge surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective organic material block on the base substrate;the fifth edge is spaced apart from a first edge of an orthographic projection of a respective organic material block of the plurality of organic material blocks on the base substrate by a sixth shortest distance;the fifth shortest distance d5 ≥ 0; andthe sixth shortest distance d6 ≥ 0.23.The array substrate of claim 2, wherein, with respect to a respective light transmissive region of the plurality of light transmissive regions, a third edge of an orthographic projection of the first coating layer on a base substrate is spaced apart from a second edge of an orthographic projection of the pixel definition layer on the base substrate by a seventh shortest distance;the second edge surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective organic material block on the base substrate;a first edge of an orthographic projection of a respective organic material block of the plurality of organic material blocks on the base substrate is spaced apart from a sixth edge of an orthographic projection of a top edge of the first coating layer on the base substrate by an eighth shortest distance;the sixth edge surrounds at least a portion of the orthographic projection of the respective organic material block on the base substrate;the seventh shortest distance d7 ≥ 0; andthe eighth shortest distance d8 ≥ 0.24.The array substrate of any one of claims 1 to 23, wherein a difference between a refractive index of the organic material layer and a refractive index of the color filter is within 10%of the refractive index of the color filter.25.The array substrate of any one of claims 1 to 23, wherein a refractive index of the organic material layer is less than a refractive index of the color filter.26.A display apparatus, comprising the array substrate of any one of claims 1 to 25, and one or more integrated circuits connected to the array substrate.

Images