A substrate container having a gas diffusion device for introducing fluid.
Patent Information
- Authority / Receiving Office
- JP · JP
- Patent Type
- Applications
- Current Assignee / Owner
- CHUNG KING ENTERPRISE CO LTD
- Filing Date
- 2026-04-20
- Publication Date
- 2026-06-25
AI Technical Summary
【0010】 本発明の流体を進入させる気体拡散装置を有する基板容器において、筐体手段の保持アセンブリの各サイドアームと気体拡散装置の保持フレームのフレームボディとの対応関係、そして筐体手段の気体進入孔と保持フレームの接続部との対応関係により、気体拡散装置は、筐体手段に安定に装着されることが実現される上、気体拡散装置の装着及び取り外しの利便性が向上される。この他、筐体手段の保持アセンブリの第1の係合部材と気体拡散装置の保持フレームの第2の係合部材との対応、そして筐体手段の気体進入孔及び保持フレーム3接続部との対応により、気体拡散装置は、筐体手段に安定に装着されることが実現される上、気体拡散装置の装着及び取り外しの利便性が向上される。さらに、各凹陥溝と、各気体進入孔と、各外蓋と、各気体導入孔と、各気体導入バルブモジュールと、各チャンバーが筐体ボトム壁内に位置することが可能となるので、装着の複雑さが軽減され、気密性の安定性を向上して使用寿命の延長するようになる上、底板(図示せず)を配置しなくても各チャンバーが画成されるので、基板容器の体積を小さくすることができると共に、基板容器の製造コストも節約できる。
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Figure 2026105036000001_ABST