Fluidics system with vacuum sampling, sample processor, and method for controlling sample flow rate in sample processor

Abstract

The present disclosure relates to a fluidics system with vacuum sampling. The fluidics system comprises a flow cell, a sampling subsystem, a sheath subsystem, a waste subsystem and a compressed air subsystem. The sampling subsystem is coupled with an inlet of the flow cell and provides sample fluid to the flow cell. The sheath subsystem is coupled with the inlet of the flow cell and provides sheath fluid to the flow cell. The waste subsystem is coupled with an outlet of the flow cell, and the sheath fluid and the sample fluid are discharged from the waste subsystem after passing through the outlet of the flow cell. The compressed air subsystem is coupled with the sheath subsystem and provides compressed air to the sheath subsystem. Further provided are a sample processor and a method for controlling a sample flow rate in the sample processor according to the present disclosure. The fluidics system, the sample processor and the method for controlling the sample flow rate in the sample processor according to the present disclosure can achieve significantly improved control accuracy.

Description

FLUIDICS SYSTEM WITH VACUUM SAMPLING, SAMPLE PROCESSOR, AND METHOD FOR CONTROLLING SAMPLE FLOW RATE IN SAMPLE PROCESSORCROSS-REFERECE TO RELATED PATENT APPLICATION

[0001] The present application claims the benefit of and priority to CN Application No. 202411847543.7 filed December 16, 2024, the entire disclosure of which is incorporated herein by reference.FIELD

[0002] The present disclosure relates to medical equipment, and in particular to a fluidics system with vacuum sampling for a sample processor such as a flow cytometry sorter  / analyzer, the sample processor, and a method for controlling a sample flow rate in the sample processor.BACKGROUND

[0003] The contents of this section only provide background information related to the present disclosure, which may not necessarily constitute the conventional technology.

[0004] A sample processor (e.g., a flow cytometry) is commonly used to analyze sample fluid including particles (e.g., biological particles, abiotic particles) or cells and / or to sort the particles or cells in the sample fluid. In the sample processor, a pipeline for conveying sheath fluid and a pipeline for conveying the sample fluid converge at a flow cell. The sample fluid containing the particles or cells is surrounded by the sheath fluid without particles, and then they pass through a detection area of a cuvette together and enter a waste pipeline for discharging after detection. The sample processor is equipped with a vacuum pump on the waste pipeline. Through the suction of the vacuum pump, a pressure difference is formed between an inlet of the flow cell and a vacuum chamber for discharging the waste fluid to discharge the waste fluid.

[0005] To accurately analyze and / or test the cells or particles in the sample fluid, the sample flow rate needs to be precisely controlled. By maintaining a constant pressure difference between the inlet of the flow cell and the vacuum chamber, the total flow rate of the fluidics system can be kept unchanged. That is, if the sheath flow rate increases, the sample flow rate will decrease, and vice versa. Therefore, the sample flow rate can be adjusted by regulating the sheath flow rate. In the aforementioned fluidics system with vacuum sampling used for the sample processor, there exist a technic that uses a sheath pump to regulate the sheath flow rate, thereby adjusting the sample flow rate in the prior art. However, the output of the sheath pump may cause impulsive fluctuations in the sheath fluid velocity, resulting in instability of the sheath flow rate. Additionally, the resolution of the sheath pump adjustment is relatively low, making fine-tuning difficult to achieve. Furthermore, in the prior art, there is a technique for adjusting the sheath flow rate by adjusting a flow resistance in the sheath pipeline, for example, by arranging a pinch valve on the sheath pipeline, thereby adjusting the sample flow rate. However, the complex structure of the pinch valve results in higher costs, and the small flow channel clearance of the pinch valve makes it sensitive to the viscosity of the fluid, causing the test results to be significantly affected by temperature.SUMMARY

[0006] This section provides a general summary of the present disclosure, rather than a comprehensive disclosure of the full scope of the present disclosure or all features of the present disclosure.

[0007] In view of the above problems of the existing fluidics system with vacuum sampling, an object of the present disclosure is to provide an improved fluidics system with vacuum sampling, a sample processor, and a method for controlling sample flow rate in the sample processor that offer higher control precision for the sample flow rate and lower temperature sensitivity.

[0008] According to an aspect of the present disclosure, a fluidics system with vacuum sampling is provided, including a flow cell, a sampling subsystem, a sheath subsystem, a waste subsystem and a compressed air subsystem. The sampling subsystem is coupled with an inlet of the flow cell and provides sample fluid to the flow cell. The sheath subsystem is coupled with the inlet of the flow cell and provides sheath fluid to the flow cell. The waste subsystem is coupled with an outlet of the flow cell, and the sheath fluid and the sample fluid are discharged from the waste subsystem after passing through the outlet of the flow cell. The compressed air subsystem is coupled with the sheath subsystem and provides compressed air to the sheath subsystem to change a pressure in the sheath subsystem, thereby changing a sheath flow rate to indirectly adjust a sample flow rate in the sampling subsystem.

[0009] In some embodiments according to the present disclosure, the sheath subsystem includes a sheath container, a sheath replenishment pump and a sheath reservoir which are connected in sequence through a sheath pipeline. The sheath replenishment pump pumps the sheath fluid in the sheath container to the gas-tight sheath reservoir, and the compressed air subsystem is coupled with the sheath reservoir to change the pressure in the sheath reservoir.

[0010] In some embodiments according to the present disclosure, the compressed air subsystem includes a compressed air source and a pressure regulator. The compressed air source is connected with the sheath reservoir through a compressed air pipeline, and the pressure regulator is arranged on the compressed air pipeline and in front of an inlet of the sheath reservoir to regulate the amount of the compressed air entering the sheath reservoir.

[0011] In some embodiments according to the present disclosure, the sheath subsystem further includes a flow meter located on the sheath pipeline and in front of the inlet of the flow cell. The flow meter is coupled with the pressure regulator, and the pressure regulator regulates the amount of the compressed air entering the sheath reservoir based on a measured value of the flow meter.

[0012] In some embodiments according to the present disclosure, the sampling subsystem includes a sample tube and a sampling pipeline. The sample fluid in the sample tube enters the flow cell through the sampling pipeline.

[0013] In some embodiments according to the present disclosure, the waste subsystem includes a vacuum chamber, a vacuum pump and a waste container which are connected in sequence through a waste pipeline. The vacuum chamber is connected to the outlet of the flow cell to receive waste fluid, and the vacuum pump pumps the waste fluid in the vacuum chamber to the waste container to discharge the waste fluid.

[0014] In some embodiments according to the present disclosure, the vacuum chamber is provided with a first pressure sensor, the inlet of the flow cell is provided with a second pressure sensor, and a degree of vacuum in the vacuum chamber is adjusted by the vacuum pump based on the measured values from the first pressure sensor and the second pressure sensor.

[0015] In some embodiments according to the present disclosure, the sheath subsystem further includes a sheath filter located between the sheath reservoir and the flow meter for filtering impurities in the sheath fluid.

[0016] In some embodiments according to the present disclosure, the sheath subsystem further includes a degasser located between the sheath filter and the flow meter for removing bubbles in the sheath fluid.

[0017] According to another aspect of the present disclosure, a sample processor including the fluidics system described above is provided.

[0018] According to another aspect of the present disclosure, a method for controlling a sample flow rate in the sample processor described above is provided. The method includes: maintaining a pressure drop in the waste subsystem; filling the compressed air into a sheath reservoir of the sheath subsystem; measuring the sheath flow rate in a sheath pipeline of the sheath subsystem; and adjusting the amount of the compressed air entering the sheath reservoir.

[0019] In some embodiments according to the present disclosure, in the step of maintaining the pressure drop in the waste subsystem, a vacuum pump of the waste subsystem adjusts a degree of vacuum in a vacuum chamber of the waste subsystem based on the measured values from a first pressure sensor of the vacuum chamber and a second pressure sensor located at the inlet of the flow cell to maintain the pressure drop in the waste subsystem.

[0020] In some embodiments according to the present disclosure, measuring the sheath flow rate in the sheath pipeline of the sheath subsystem is carried out by a flow meter arranged on the sheath pipeline.

[0021] In some embodiments according to the present disclosure, in the step of adjusting the amount of the compressed air entering the sheath reservoir, a pressure regulator of the compressed air subsystem adjusts the amount of the compressed air entering the sheath reservoir in real time based on the measured value from the flow meter, thereby adjusting the pressure in the sheath subsystem to change the sheath flow rate, so as to indirectly adjust the sample flow rate.

[0022] The fluidics system with vacuum sampling, the sample processor and the method for controlling the sample flow rate in the sample processor according to the present disclosure can realize at least the following advantageous effects:

[0023] In the fluidics system with vacuum sampling, the sample processor and the method for controlling the sample flow rate in the sample processor according to the present disclosure, the sheath flow rate is adjusted by adjusting the pressure in the sheath reservoir. Since the pressure regulator can provide stable pressure, a stable sheath flow can be obtained, so as to realize stable sample flow rate regulation. Moreover, since the pressure regulator can realize high-resolution fine-tuning to adjust the sheath flow rate, the sample flow rate can be adjusted with high resolution. Further, a flow meter is arranged on the sheath pipeline for detecting the sheath flow rate. The pressure regulator is controlled based on a closed loop feedback of the flow meter, ensuring the accuracy of the pressure regulation. In addition, since the flow meter is arranged on the sheath pipeline instead of the sampling pipeline, the output of the flow meter won’ t be affected by different fluids flowing through it. Moreover, since the flow meter is insensitive to temperature, the output of the flow meter is less affected by the temperature, and the control accuracy is improved.

[0024] The above and other objects, features and advantages of the present disclosure will be more fully understood from the detailed description given below and the accompanying drawings, which are given by way of illustration only and are therefore not considered as limiting the present disclosure.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

[0025] The features and advantages of one or more embodiments of the present disclosure will become more readily understood from the following description with reference to the accompanying drawings. In the accompanying drawings:

[0026] FIG. 1 is a schematic view of a fluidics system with vacuum sampling according to an embodiment of the present disclosure;

[0027] FIG. 2 is a simplified schematic view of the fluidics system with vacuum sampling in FIG. 1;

[0028] FIG. 3 is a flowchart showing a method for controlling a sample flow rate in a sample processor according to an embodiment of the present disclosure. DETAILED DESCRIPTION OF THE EMBODIMENTS

[0029] The present disclosure will now be described in detail below through exemplary embodiments with reference to the accompanying drawings. In several accompanying drawings, similar components and assemblies are represented by similar reference numerals. The following detailed description of the present disclosure is for illustrative purposes only and is in no way a limitation of the present disclosure, its application or usages. The embodiments described in this specification are not exhaustive and are merely some of multiple possible embodiments. The exemplary embodiments may be implemented in many different forms, and should not be construed as limiting the scope of the present disclosure. In some exemplary embodiments, well-known processes, well-known device structures, and well-known technologies may not be described in detail.

[0030] A fluidics system with vacuum sampling according to an embodiment of the present disclosure will be further described with reference to FIG. 1 and FIG. 2. FIG. 1 is a schematic view of a fluidics system with vacuum sampling according to an embodiment of the present application, and FIG. 2 is a simplified schematic view of the fluidics system with vacuum sampling in FIG. 1.

[0031] As shown in FIG. 1, the fluidics system with vacuum sampling includes a sampling subsystem 100, a sheath subsystem 200 and a waste subsystem 300. Sample fluid from the sampling subsystem 100 is surrounded by sheath fluid from the sheath subsystem 200 after entering a flow cell 1. The merged sample fluid and sheath fluid enter a detection area of a cuvette 2 for optical analysis, and the mixed fluid of the detected sample fluid and sheath fluid enters the waste subsystem 300 for discharge.

[0032] Further, as shown in FIG. 1, the sampling subsystem 100 includes a sampling pipeline 101 and a sample tube 102. The sample tube 102 is an input end of the sample fluid, and the sample fluid in the sample tube 102 enters the flow cell 1 through the sampling pipeline 101.

[0033] The waste subsystem 300 includes a waste container 302, a vacuum pump 303 and a vacuum chamber 304 which are connected in sequence through a waste pipeline 301. The vacuum pump 303 is used to generate vacuum in the vacuum chamber 304, allowing the waste fluid from an outlet of the cuvette 2 to enter the vacuum chamber 304 through the waste pipeline 301. Meanwhile, the vacuum pump 303 pumps the waste fluid in the vacuum chamber 304 to the waste container 302 to discharge the waste fluid. The vacuum chamber 304 is provided with a first pressure sensor 305 for measuring the pressure Pvac in the vacuum chamber 304. Meanwhile, an inlet of the flow cell 1 is provided with a second pressure sensor 210 for measuring the pressure Pflow cell at the inlet of the flow cell 1. A degree of vacuum in the vacuum chamber 304 is adjusted by the vacuum pump 303 based on the measured values from the first pressure sensor 305 and the second pressure sensor 210, so as to keep the pressure drop ΔP1 in the waste subsystem 300 (that is, the pressure difference between the pressure Pflow cell at the inlet of the flow cell 1 and the pressure Pvac in the vacuum chamber 304) unchanged.

[0034] Further, the waste subsystem 300 further includes a waste valve 306, which is arranged in front of the inlet of the vacuum chamber 304 to control the on-off of the waste pipeline 301.

[0035] In this embodiment, as shown in FIG. 1, the sheath subsystem 200 includes a sheath container 202 and a sheath replenishment pump 203. The sheath replenishment pump 203 pumps the sheath fluid in the sheath container 202 to the flow cell 1 through a sheath pipeline 201, and the sheath fluid and the sample fluid from the sampling subsystem 100 are combined in the flow cell 1 and then enter the cuvette 2.

[0036] The sheath subsystem 200 further includes a sheath filter 204 for filtering impurities in the sheath fluid and a degasser 205 for removing bubbles in the sheath fluid. Before entering the flow cell 1, the sheath fluid in the sheath pipeline 201 passes through the sheath filter 204 and the degasser 205 respectively, so that impurities and bubbles in the sheath fluid will be removed. The sheath subsystem 200 further includes a sheath valve 206 arranged in front of the inlet of the flow cell 1 to control the on-off of the sheath pipeline 201.

[0037] FIG. 2 is a simplified schematic view of the fluidics system with vacuum sampling in FIG. 1. As shown in FIG. 2, since the waste fluid is a combination of the sheath fluid and the sample fluid, the flow rate Qtotal in the waste subsystem 300 is equal to a sum of the sample flow rate Qsample in the sampling subsystem 100 and the sheath flow rate Qsheath in the sheath subsystem 200. The pressure drop in the waste subsystem 300 satisfies: ΔP1=Pflow cell-Pvac=Qtotal×Rwaste= (Qsample+Qsheath) ×Rwaste

[0038] where Rwaste is a flow resistance of the waste subsystem 300. The flow resistance of the waste subsystem 300 is determined by the flow resistance of the pipelines and equipment of the waste subsystem 300. Therefore, as long as ΔP1 is maintained, the sample flow rate Qsample can be controlled by controlling the sheath flow rate Qsheath.

[0039] Futher, the sheath flow rate satisfies: Qsheath=ΔP2 / Rsheath

[0040] where ΔP2 is the pressure drop in the sheath subsystem 200, and Rsheath is the flow resistance in the sheath subsystem 200. When the flow resistance Rsheath in the sheath subsystem 200 is constant, the regulation of the sheath flow rate Qsheath can be achieved by adjusting the pressure drop ΔP2 in the sheath pipeline 201.

[0041] In order to adjust the pressure drop ΔP2 in the sheath subsystem 200, as shown in FIG. 1, the sheath subsystem 200 according to the embodiment of the present disclosure further includes a compressed air subsystem 400, which is used to fill the compressed air into the sheath subsystem 200 to adjust the sheath flow rate Qsheath in the sheath subsystem 200 by adjusting the pressure drop ΔP2 in the sheath subsystem 200, thereby adjusting the sample flow rate Qsample.

[0042] Specifically, as shown in FIG. 1, the sheath subsystem 200 further includes a sheath reservoir 207. The sheath container 202 filled with the sheath fluid is connected with the sheath replenishment pump 203 through the sheath pipeline 201, and the sheath replenishment pump 203 pumps the sheath fluid in the sheath container 202 to the gas-tight sheath reservoir 207. The compressed air subsystem 400 fills the compressed air into the sheath reservoir 207, thereby changing the pressure Preservoir in the sheath reservoir 207, and further changing the pressure drop ΔP2 in the sheath subsystem 200 (ΔP2 = Preservoir –Pflow cell) .

[0043] The compressed air subsystem 400 includes a compressed air source 402 and a pressure regulator 403 (for example, a pressure regulating valve and the like) . The compressed air source 402 may be canned compressed air or compressed air from a place of use and the like. The compressed air from the compressed air source 402 enters the gas-tight sheath reservoir 207 through the compressed air pipeline 401 and via the pressure regulator 403, and the pressure regulator 403 can adjust the amount of the compressed air entering the sheath reservoir 207.

[0044] Further, the sheath subsystem 200 also includes a flow meter 208, which is located on the sheath pipeline 201 and at upstream of the sheath valve 206. The flow meter 208 can measure the flow rate in the sheath pipeline 201 in real time and feedback the sheath flow rate data to the pressure regulator 403, and the pressure regulator 403 can adjust the amount of the compressed air filled into the sheath reservoir 207 in real time based on the measured value from the flow meter 208, so as to adjust the sheath flow rate Qsheath in the sheath pipeline 201 by adjusting the pressure drop ΔP2 in the sheath subsystem 200 to achieve the purpose of adjusting the sample flow rate Qsample in real time.

[0045] Further, as shown in FIG. 1, the sheath subsystem 200 further includes a resistance tubing 209, which is arranged on the sheath pipeline 201 to increase the flow resistance in the sheath subsystem 200, allowing a vacuum condition to be achieved in the waste subsystem 300.

[0046] In the embodiment of the present disclosure, the sheath flow rate is adjusted by adjusting the pressure in the sheath reservoir 207, and since the pressure regulator 403 can provide a stable pressure, a stable sheath fluid flow can be obtained, so as to realize stable sample flow rate regulation. Moreover, since the pressure regulator 403 can realize high-resolution fine-tuning to adjust the sheath flow rate Qsheath, the sample flow rate Qsample can be adjusted with high resolution.

[0047] In the embodiment of the present disclosure, the flow meter 208 is provided on the sheath pipeline 201 to detect the sheath flow rate Qsheath. The pressure regulator 403 is controlled based on the closed loop feedback of the flow meter 208, ensuring the accuracy of the pressure adjustment. In addition, since the flow meter 208 is arranged on the sheath pipeline 201 instead of the sampling pipeline 101, the output of the flow meter 208 won’ t be affected by different fluids flowing through it. Moreover, since the flow meter is insensitive to temperature, the output of the flow meter 208 is less affected by temperature, and the control accuracy is improved.

[0048] The present disclosure further relates to a sample processor including the fluidics system with vacuum sampling described above.

[0049] It should be understood that the fluidics system with vacuum sampling for the sample processor and the sample processor according to the present disclosure should not be limited to the specific examples shown in the drawings or described herein, but may be modified as needed.

[0050] A method for controlling a sample flow rate in the sample processor according to the embodiment of the present disclosure will be described with reference to FIG. 3. FIG. 3 is a flowchart showing a method for controlling a sample flow rate in a sample processor according to an embodiment of the present disclosure.

[0051] As shown in FIG. 3, method S10 includes a step of maintaining the pressure drop in the waste subsystem 300 (step S11) . The vacuum pump 303 of the waste subsystem 300 adjusts a degree of vacuum in the vacuum chamber 304 based on the measured values from the first pressure sensor 305 of the vacuum chamber 304 and the second pressure sensor 210 located at the inlet of the flow cell 1 to maintain the pressure drop ΔP1 in the waste subsystem 300 unchanged.

[0052] With the pressure drop in the waste subsystem 300 maintained unchanged, as described above, the sample flow rate can be adjusted by adjusting the pressure drop in the sheath subsystem 200. Therefore, the control method according to the embodiment of the present disclosure further includes a step of filling the compressed air into the sheath reservoir 207 (step S13) . The pressure drop in the sheath subsystem 200 is changed by filling the compressed air into the gas-tight sheath reservoir 207, so as to adjust the sample flow rate by adjusting the sheath flow rate.

[0053] Further, the control method according to the embodiment of the present disclosure further includes a step of measuring the sheath flow rate in the sheath pipeline 201 (step S15) and a step of adjusting the amount of the compressed air entering the sheath reservoir 207 (step S17) . The flow meter 208 is arranged on the sheath pipeline 201 to measure the flow rate in the sheath pipeline 201, and the pressure regulator 403 adjusts the amount of the compressed air entering the sheath reservoir 207 in real time based on the measured value from the flow meter 208, thereby adjusting the pressure drop in the sheath subsystem 200 to ensure that the sample flow rate meets the requirement.

[0054] It should be understood that the method for controlling a sample flow rate in the sample processor according to the present disclosure should not be limited to the specific examples shown in the drawings or described herein, but may be changed as needed. The steps of the method are not necessarily performed in the order described, but may be adjusted as needed.

[0055] Although the present disclosure has been described with reference to exemplary embodiments, it should be understood that the present disclosure is not limited to the specific embodiments described and illustrated herein. Those skilled in the art may make various changes to the exemplary embodiments without departing from the scope defined by the claims. The features in the various embodiments may be combined with each other, provided that there is no contradiction. Alternatively, a certain feature in an embodiment may be omitted.

Claims

1.A fluidics system with vacuum sampling, comprising:a flow cell (1) ;a sampling subsystem (100) coupled with an inlet of the flow cell (1) and providing sample fluid to the flow cell (1) ;a sheath subsystem (200) coupled with the inlet of the flow cell (1) and providing sheath fluid to the flow cell (1) ;a waste subsystem (300) coupled with an outlet of the flow cell (1) , wherein the sheath fluid and the sample fluid are discharged from the waste subsystem (300) after passing through the outlet of the flow cell (1) ; anda compressed air subsystem (400) coupled with the sheath subsystem (200) and providing compressed air to the sheath subsystem (200) to change a pressure in the sheath subsystem (200) , thereby changing a sheath flow rate to indirectly adjust a sample flow rate in the sampling subsystem (100) .2.The fluidics system according to claim 1, wherein the sheath subsystem (200) comprises a sheath container (202) , a sheath replenishment pump (203) and a sheath reservoir (207) which are connected in sequence through a sheath pipeline (201) , wherein the sheath replenishment pump (203) pumps the sheath fluid in the sheath container (202) to the gas-tight sheath reservoir (207) , and wherein the compressed air subsystem (400) is coupled with the sheath reservoir (207) to change the pressure in the sheath reservoir (207) .3.The fluidics system according to claim 2, wherein the compressed air subsystem (400) comprises a compressed air source (402) and a pressure regulator (403) , wherein the compressed air source (402) is connected with the sheath reservoir (207) through a compressed air pipeline (401) , and the pressure regulator (403) is arranged on the compressed air pipeline (401) and in front of an inlet of the sheath reservoir (207) to regulate the amount of the compressed air entering the sheath reservoir (207) .4.The fluidics system according to claim 3, wherein the sheath subsystem (200) further comprises a flow meter (208) located on the sheath pipeline (201) and in front of the inlet of the flow cell (1) , wherein the flow meter (208) is coupled with the pressure regulator (403) , and the pressure regulator (403) regulates the amount of the compressed air entering the sheath reservoir (207) based on a measured value of the flow meter (208) .5.The fluidics system according to any one of claims 1 to 4, wherein the sampling subsystem (100) comprises a sample tube (102) and a sampling pipeline (101) , wherein the sample fluid in the sample tube (102) enters the flow cell (1) through the sampling pipeline (101) .6.The fluidics system according to any one of claims 1 to 4, wherein the waste subsystem (300) comprises a vacuum chamber (304) , a vacuum pump (303) and a waste container (302) which are connected in sequence through a waste pipeline (301) , wherein the vacuum chamber (304) is connected to the outlet of the flow cell (1) to receive waste fluid, and wherein the vacuum pump (303) pumps the waste fluid in the vacuum chamber (304) to the waste container (302) to discharge the waste fluid.7.The fluidics system according to claim 6, wherein the vacuum chamber (304) is provided with a first pressure sensor (305) , the inlet of the flow cell (1) is provided with a second pressure sensor (210) , and a degree of vacuum in the vacuum chamber (304) is adjusted by the vacuum pump (303) based on the measured values from the first pressure sensor (305) and the second pressure sensor (210) .8.The fluidics system according to claim 4, wherein the sheath subsystem (200) further comprises a sheath filter (204) located between the sheath reservoir (207) and the flow meter (208) for filtering impurities in the sheath fluid.9.The fluidics system according to claim 8, wherein the sheath subsystem (200) further comprises a degasser (205) located between the sheath filter (204) and the flow meter (208) for removing bubbles in the sheath fluid.10.A sample processor, comprising the fluidics system according to any one of claims 1 to 9.11.A method for controlling a sample flow rate in the sample processor according to claim 10, wherein the method comprises:maintaining a pressure drop in the waste subsystem (300) ;filling the compressed air into a sheath reservoir (207) of the sheath subsystem (200) ;measuring the sheath flow rate in a sheath pipeline (201) of the sheath subsystem (200) ; andadjusting the amount of the compressed air entering the sheath reservoir (207) .12.The method according to claim 11, wherein in the step of maintaining the pressure drop in the waste subsystem (300) , a vacuum pump (303) of the waste subsystem (300) adjusts a degree of vacuum in a vacuum chamber (304) of the waste subsystem (300) based on the measured values from a first pressure sensor (305) of the vacuum chamber (304) and a second pressure sensor (210) located at the inlet of the flow cell (2) to maintain the pressure drop in the waste subsystem (300) .13.The method according to claim 11, wherein measuring the sheath flow rate in the sheath pipeline (201) of the sheath subsystem (200) is carried out by a flow meter (208) arranged on the sheath pipeline (201) .14.The method according to claim 13, wherein in the step of adjusting the amount of the compressed air entering the sheath reservoir (207) , a pressure regulator (403) of the compressed air subsystem (400) adjusts the amount of the compressed air entering the sheath reservoir (207) in real time based on the measured value from the flow meter (208) , thereby adjusting the pressure in the sheath subsystem (200) to change the sheath flow rate, so as to indirectly adjust the sample flow rate.

Images